LPCVD和PECVD的区别
LPCVD和PECVD的区别 通过在低压环境下的高温操作，L
数据表
纳米压印模板产品表
产品详情
| 周期 | 有效面积 | 最大刻蚀深度（硅/石英） | 线宽 | 型号 |
| 125nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50~80 nm | L125_D80 |
| 140nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50~85 nm | L140_D80 |
| 150nm | φ 90 mm | 75 nm/80 nm | 60~100 nm | L150_D90 |
| 200nm | φ 90 mm | 150 nm/120 nm | 60~120 nm | L200_D90 |
| 250nm | φ 94 mm | 200 nm/100 nm | 90~130 nm | L250_D100 |
| 280nm | φ 80 mm | 200 nm/100 nm | 100~150 nm | L280_D80 |
| 300nm | φ 94 mm | 300 nm/100 nm | 100~160 nm | L300_D100 |
| 380nm | φ 94 mm | 400 nm/300 nm | 200~270 nm | L380_D100 |
| 400nm | φ 94 mm | 300 nm/150 nm | 100~200 nm | L400_D100 |
| 470nm | φ 94 mm | 500 nm/400 nm | 200~270 nm | L470_D100 |
| 500nm | φ 94 mm | 400 nm/200 nm | 150~250 nm | L500_D100 |
| 560nm | φ 80 mm | 400 nm/200 nm | 150~280 nm | L560_D80 |
| 600nm | φ 94 mm | 500 nm/250 nm | 150~300 nm | L600_D100 |
| 760nm | φ 94 mm | 700 nm/600 nm | 320~430 nm | L760_D100 |
| 800nm | φ 94 mm | 600 nm/300 nm | 200~400 nm | L800_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 800 nm/400 nm | 200~500 nm | L1000_D100 |
| 1300nm | 75x55 mm² | 1000 nm/500 nm | 300~650 nm | L1300_75x55 |
| 周期 | 有效面积 | 最大刻蚀深度（硅） | 线宽 | 型号 |
| 125nm | 18x18 mm² | 120 nm | 60 nm | L125_18x18 |
| 150nm | 15x15 mm² | 150 nm | 75 nm | L150_15x15 |
| 200nm | 20x20 mm² | 60 nm/90 nm | 100 nm | L200_20x20 |
| 300nm | 30x30 mm² | 170 nm | 170 nm | L300_30x30 |
| 375nm | 20x20 mm² | 264 nm | 240 nm | L375_20x20 |
| 550nm | 20x20 mm² | 300 nm | 288 nm | L550_20x20 |
| 600nm | 20x20 mm² | 100 nm | 400 nm | L600_20x20 |
| 800nm | 20x20 mm² | 380 nm | 400 nm | L800_20x20 |
| 1300nm | φ 50 mm | 480 nm | 750 nm | L1300_D50 |
| 4000nm | 32x32 mm² | 2000 nm/2300 nm | 2000 nm | L4000_32x32 |
| 4800nm | 25x25 mm² | 2600 nm/3200 nm | 2200 nm | L4800_25x25 |
| 周期 | 有效面积 | 最大刻蚀深度 | 线宽 | 型号 |
| 10μm | 20x20 mm² | 5 μm（硅） | 400 nm | VL10_20x20 |
| 80 μm | φ 100 mm | 7.5 μm（镍） | 4 μm | VL80_D100 |
特点和优势：
高分辨率：我们的纳米压印模板具有出色的分辨率能力，可以在纳米尺度上实现复杂的图案。这种高分辨率的特性使得它成为研究纳米尺度现象和制造纳米器件的理想选择。
高精度：我们的模板制造过程采用先进的纳米加工技术，确保了高度一致性和精度。这种高精度保证了每个模板都能提供可靠且重复性的图案转移效果。
多功能性：我们的纳米压印模板可用于各种应用领域。它可以用于制造纳米电子器件，如纳米晶体管和纳米线路。它还可用于光电子器件的制造，如纳米光栅和光子晶体。此外，它在生物医学领域的应用也非常广泛，例如制造生物芯片和纳米传感器。
高效性：我们的纳米压印模板制造过程高效且可扩展。它可以批量生产，适用于大规模制造需求。这种高效性使得我们的产品成为工业界和学术界研究的首选。
定制化：我们可以根据客户的需求提供定制化的纳米压印模板。无论是特定的图案设计还是特殊的材料要求，我们的团队都可以为您量身定制最佳解决方案。
纳米压印模板（线栅阵列）是一种用于纳米压印技术的关键元件。它是由纳米尺度的线栅图案组成的模板，用于在目标材料表面实现高分辨率的图案转移。
纳米压印模板（线栅阵列）的主要特点是其线栅结构。线栅是一种由平行排列的细长条带组成的图案。这些线栅的间距和尺寸可以在纳米尺度上进行精确控制，通常在几十到几百纳米之间。线栅的形状和排列方式可以根据具体应用需求进行设计和定制。
产品精度：
高度/深度：± 15% 线宽：± 10%
直径：± 10% 缺陷面积：＜ 1%
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