Siliziumnitrid-Dünnschichten für optische Anwendungen
Siliziumnitrid ist ein typisches optisches Dünnschichtmaterial, das im Bereich der optischen Dünnschichten einen hohen Anwendungswert hat. Aufgrund seiner ausgezeichneten optischen Eigenschaften und seiner chemischen Stabilität wird es häufig für optische Komponenten verwendet. Siliziumnitridfilm hat nicht nur eine hohe Durchlässigkeit und hohe Antireflexionseigenschaften, sondern auch eine hohe Härte und Verschleißfestigkeit, wodurch die mit Siliziumnitridfilm beschichtete Oberfläche optischer Geräte die optische Leistung und die Lebensdauer des Geräts effektiv verbessern kann. Daher bietet die Anwendung von Siliziumnitrid-Film im Bereich der Optik eine wichtige Unterstützung für die Leistungsverbesserung und Anwendungserweiterung von optischen Geräten.
Siliziumnitrid (SiNx) Film Anwendungen
Antireflexionsbeschichtung (AR-Beschichtung)
- Funktion: Wird auf der Oberfläche von optischen Linsen, Kameralinsen, Brillen, Monitoren usw. verwendet, um die Reflexion zu verringern und die Lichtdurchlässigkeit zu verbessern.
- Funktionsprinzip: Durch die Wahl der richtigen Dicke und des richtigen Brechungsindexes wird die Reflexion verringert und die Lichtdurchlässigkeit erhöht.
- Vorteil: Hoher Brechungsindex und gute optische Transparenz, wodurch Reflexionen wirksam reduziert werden.
Reflektor-Beschichtung
- Rolle: Wird in Laserspiegeln und anderen optischen Reflexionsgeräten verwendet, um die Reflexionseffizienz zu erhöhen.
- Funktionsprinzip: Abwechselndes Stapeln mit anderen Materialien zur Bildung von Bragg-Spiegeln zur Optimierung der reflektierenden Spektraleigenschaften.
- Vorteil: Hohes Reflexionsvermögen und breitbandige Reflexionseigenschaften für leistungsstarke optische Systeme.
Schutzschicht
- Rolle: Wird für Laserfenster, optische Sensoren, Mikroskoplinsen usw. verwendet, um die Oberfläche optischer Komponenten vor Umwelterosion und mechanischen Schäden zu schützen.
- Arbeitsprinzip: Siliziumnitrid-Folie hat eine ausgezeichnete chemische Stabilität und mechanische Festigkeit, die die Oberfläche optischer Komponenten wirksam schützen kann.
- Vorteil: Die Lebensdauer der optischen Komponenten wird verlängert und ihre optische Leistung bleibt stabil.
Hohlleiter
- Funktion: Wird als Wellenleiterschicht in optischen integrierten Schaltkreisen und photonischen Geräten verwendet, um optische Signale zu leiten.
- Funktionsprinzip: Die Siliziumnitridschicht wirkt als Wellenleiterschicht mit hohem Brechungsindex, um Licht effizient zu leiten und Lichtverluste zu verringern.
- Vorteil: Bietet verlustarme Wellenleitermaterialien mit hohem Brechungsindex, die für die optische Integration mit hoher Dichte geeignet sind.
Interferenzfilter
- Rolle: Wird in Spektrometern, Filtern, Sensoren usw. verwendet und überträgt selektiv Licht bestimmter Wellenlängen.
- Funktionsprinzip: Durch genaue Kontrolle der Dicke und des Brechungsindexes der Siliziumnitridschicht und anderer Materialien wird eine mehrschichtige Interferenzstruktur gebildet, die eine selektive Transmission oder Reflexion bestimmter Wellenlängen ermöglicht.
- Vorteil: Bietet optische Filterleistung mit hoher Selektivität und hoher Durchlässigkeit.
optischer Modulator
- Funktion: Wird als Modulator in optischen Kommunikationssystemen verwendet, um die Datenübertragung durch Modulation optischer Signale zu ermöglichen.
- Funktionsprinzip: Als aktive Schicht des Modulators wird eine Siliziumnitridschicht verwendet, um das optische Signal durch elektrooptische oder thermooptische Effekte zu modulieren.
- Vorteil: Schnelle Reaktion und hohe Modulationseffizienz, geeignet für optische Hochgeschwindigkeits-Kommunikationsanwendungen.
ICPCVD (induktiv gekoppelte plasmachemische Gasphasenabscheidung) undPECVD (Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung)Es gibt offensichtliche Vorteile bei der Herstellung von Siliziumnitrid-Filmen, die beiden CVD-Methoden sind in der Lage, höhere Abscheiderate, niedrigere Abscheidetemperatur, bessere Film Einheitlichkeit und Filmqualität zu erreichen, und zur gleichen Zeit, kann es eine genaue Kontrolle der Film-Struktur und Eigenschaften, geeignet für die einheitliche Abscheidung über große Flächen zu erreichen, und hat die Merkmale der Prozess-Stabilität und Reproduzierbarkeit.
ICPCVD und PECVD haben jeweils ihre eigenen Vorteile und Anwendungsbereiche, und die Wahl des Verfahrens hängt in erster Linie von den spezifischen Anwendungsbedürfnissen und Prozessanforderungen ab.Mehr erfahren
Wir bieten Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) OEM-Anpassungsdienstekönnen Sie gerne einen Kommentar hinterlassen.
Ähnliche Produkte
Verwandte Lektüre
Wissenschaftlicher Leitfaden: Einführung, Prinzipien und Anwendungsszenarien von Siliziumnitrid-Dünnschichtfenstern
Wissenschaftlicher Leitfaden: Einführung, Eigenschaften und Anwendungsszenarien von Siliziumnitrid-Dünnschichtfenstern Nitrid
Was ist das Verfahren der Dünnschichtabscheidung?
Was ist Dünnschichttechnik? Die Technologie der Dünnschichtabscheidung ist ein wichtiger
Polysiliziumfilm丨Verschiedene Faktoren, die die Oberflächeneigenschaften von Polysiliziumfilm beeinflussen
Polysiliziumfilm丨Verschiedene Faktoren, die die Oberflächeneigenschaften beeinflussen, wachsender Polysiliziumfilm
