Verfahrensprinzipien und Anwendungen optischer Beschichtungen
Prinzipien und Anwendungen der optischen Beschichtungstechnologie Die Verfahrensprinzipien der optischen Beschichtung umfassen hauptsächlich
Wissenschaftlicher Leitfaden: Einführung, Eigenschaften und Anwendungsszenarien von Siliziumnitrid-Dünnschichtfenstern
Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster sind ein gängiges Verbrauchsmaterial für die Transmissionselektronenmikroskopie, mit dem Forscher die Mikrostruktur und Eigenschaften von Proben mit hoher Auflösung beobachten können. In diesem Artikel werden das grundlegende Konzept von Siliziumnitrid-Dünnschichtfenstern, die Vorteile ihrer Eigenschaften und ihre Anwendungsbereiche vorgestellt.
Was ist ein Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster?
Siliciumnitrid (Si3N4) ist ein anorganisches, nichtmetallisches Material mit hoher Festigkeit, hoher Härte, hoher Wärmebeständigkeit, hoher Korrosionsbeständigkeit und niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizienten. Siliciumnitrid kann durch Verfahren wie die chemische Abscheidung aus der Gasphase (CVD) oder die physikalische Abscheidung aus der Gasphase (PVD) zu einheitlichen und dichten Schichten auf einem Substrat verarbeitet werden. Solche Schichten können als Probenträger für die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM), das so genannte Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster, verwendet werden.
Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster bestehen in der Regel aus einem Substratrahmen mit einem Standarddurchmesser von 3 mm und einer Siliziumnitridschicht mit einer Öffnung in der Mitte. Größe und Form der Öffnung können auf die experimentellen Anforderungen zugeschnitten werden, in der Regel quadratisch oder kreisförmig, und die Größe variiert von einigen hundert Nanometern bis zu einigen Millimetern. Auch die Dicke der Siliziumnitridschicht kann an die experimentellen Anforderungen angepasst werden und liegt in der Regel zwischen 10 nm und 500 nm. Auf diese Weise kann der Forscher die Probe in den Öffnungen platzieren und den Elektronenstrahl nutzen, um in die Probe einzudringen und mit ihr zu interagieren, um Bilder und Informationen über die Probe zu erhalten.
Eigenschaften von Siliziumnitrid-Dünnschichtfenstern
Siliciumnitrid-Dünnschichtfenster werden mit Hilfe der Dünnschichttechnologie hergestellt und haben die folgenden sieben Haupteigenschaften
Hohe Transparenz:Der Brechungsindex von Siliziumnitridschichten ist sehr niedrig, etwa 1/3 des Brechungsindexes von Luft, wodurch Reflexionsverluste verringert und die Transmission erhöht werden, was die Effizienz des optischen Systems steigert.
Gute mechanische Festigkeit:Das Siliziumnitrid-Filmmaterial hat eine gute mechanische Festigkeit und kann extremen Umgebungen wie hohem Druck, hohen Temperaturen und starken Säuren standhalten.
Korrosionsbeständigkeit:Das Siliziumnitrid-Dünnschichtmaterial ist in der Lage, stabile physikalische und chemische Eigenschaften in extremen Umgebungen wie starken Säuren, Laugen und hohen Temperaturen beizubehalten, und ist weniger anfällig für Korrosion und Oxidation, wodurch die Stabilität und Langlebigkeit des optischen Systems gewährleistet wird
Hohe Temperaturbeständigkeit:Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster sind in der Lage, stabile physikalische und chemische Eigenschaften in Hochtemperaturumgebungen (1000°C) beizubehalten, wodurch sie sich für optische Systeme und Anwendungen in Hochtemperaturumgebungen eignen.
Hoher Grad an Ebenheit:Die hohe Oberflächenebenheit bietet eine bessere Plattform für die Probenauflage und eine stabilere und gleichmäßigere Verteilung der Probe über das Fenster.
Waschbarkeit:Zur Entfernung von Probenrückständen und Verunreinigungen können verschiedene Reinigungsverfahren wie Lösungsmittelreinigung und Plasmareinigung durchgeführt werden.
Vielfältigkeit:Eine große Auswahl an verschiedenen Größen, Dicken, Oberflächenbeschaffenheiten und Öffnungsgrößen steht zur Verfügung, um einer Vielzahl von experimentellen Anforderungen und Anwendungsszenarien gerecht zu werden.
Anwendungsszenarien für Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster
Siliciumnitrid-Dünnschichtfenster werden in einem breiten Spektrum von Anwendungen eingesetzt. In der Halbleiterproduktion und der analytischen Forschung werden Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster in großem Umfang bei der TEM- und SEM-Probenvorbereitung und in der Forschung eingesetzt, um die innere Struktur von Halbleiterbauelementen, Gitterdefekte, Defektstrukturen usw. zu beobachten. In der Optik sind Siliciumnitrid-Dünnschichtfenster ebenfalls von Bedeutung: Sie können auf der Oberfläche von Solarzellen hergestellt werden, um die Lichtabsorption von Solarzellen zu verbessern, und sie können auch zur Herstellung transparenter, entspiegelter Schichten verwendet werden. In den Biowissenschaften können Siliziumnitrid-Filmfenster zur Beobachtung der inneren Struktur und Funktion von Zellen, wie z. B. des zytoplasmatischen osmotischen Drucks und der Sauerstoffkonzentration, verwendet werden und haben daher ein großes Potenzial für Anwendungen in der zytologischen Forschung und der Biomedizin.
Zusammenfassend lässt sich sagen, dass das Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster ein hervorragendes Mittel zur Beobachtung von Werkstoffkunde (vertieftes Wissen) , , Biologische Wissenschaften (vertiefte Kenntnisse) , , Halbleiterproduktion und -analyse (vertieftes Wissen), ,Die Anwendungsmöglichkeiten in Bereichen wie der Optik sind vielfältig. Dank ihrer hohen Stabilität und geringen Fehleranfälligkeit werden Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster in Zukunft eine noch wichtigere Rolle in Forschung und Praxis spielen!
Wir bieten Siliziumnitrid-Dünnschichtfenster / MEMS-AnpassungsdiensteFür weitere Informationen können Sie uns gerne eine Nachricht hinterlassen.
Verwandte Lektüre
Was sind die Eigenschaften und Anwendungen von Vanadiumdioxid, das durch Magnetronsputtern hergestellt wird?
Was sind die Merkmale und Anwendungen von Vanadiumdioxid, das durch Magnetronsputtern hergestellt wird Magnetronsputtern
Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TIN) durch ALD-Verfahren
Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) durch ALD-Verfahren mittels Atomlagenabscheidung
