Unterschied zwischen LPCVD und PECVD Durch den Betrieb bei hohen Temperaturen in einer Niederdruckumgebung ist die LPCVD in der Lage, hochwertige, dichte und homogene Schichten zu erzeugen.

Grundsätze und Anwendungen der optischen Beschichtungstechnologie Das Verfahrensprinzip der optischen Beschichtung besteht hauptsächlich in der Abscheidung einer oder mehrerer Schichten auf der Oberfläche eines optischen Elements (z. B. Linse, Spiegel, Prisma usw.).

Auswirkung des Glühprozesses auf Platinwiderstände Im Bereich der hochpräzisen Temperaturmessung ersetzen Dünnschicht-Platinwiderstände aufgrund ihrer hohen Stabilität und Genauigkeit nach und nach die herkömmlichen Widerstände.

Magnetron-Sputtering-Verfahren zur Herstellung von Platin-Temperatursensoren In der modernen Wissenschaft und Technik spielen Temperatursensoren eine wichtige Rolle als wichtige Messgeräte in verschiedenen Branchen.

Siliziumnitrid-Dünnschichten in optischen Anwendungen Siliziumnitrid-Dünnschichten als typisches optisches Dünnschichtmaterial haben wichtige Anwendungen im Bereich der optischen Dünnschichten

Herstellung von dünnen Schichten aus Titannitrid (TiN) im ALD-Verfahren Dünne Schichten aus Titannitrid (TiN), die im ALD-Verfahren hergestellt werden, weisen eine hohe Härte und eine niedrige Temperatur auf.

Unterschiede zwischen ICPCVD und PECVD für die Herstellung von Siliziumnitrid-Dünnschichten ICPCVD (induktiv gekoppelt)

Variation von Brechungsindex und Absorptionskoeffizient von amorphem Silizium bei verschiedenen Wellenlängen Bei der Untersuchung der optischen Eigenschaften von amorphem Silizium werden der Brechungsindex (n) und der Absorptionskoeffizient (k)