Harbor-Halbleiter

Schablonen mit Nano-Prägung - Drahtgitter-Arrays
Vier-Zoll-Nanoimprint-Schablonen für hochauflösende Musterübertragung im Nanomaßstab. Weit verbreitet in den Bereichen Nanoelektronik, Optoelektronik, Biomedizin und Photonik.
Datenblatt
Produktblatt für Nanoimprinting-Schablonen

Einzelheiten zum Produkt

PeriodizitätEffektive FlächeMaximale Ätztiefe (Silizium/Quarz)LinienbreiteModell
125nmφ 80 mm 100 nm/80 nm50~80 nmL125_D80
140nmφ 80 mm 100 nm/80 nm50 bis 85 nmL140_D80
150nmφ 90 mm75 nm/80 nm60~100 nmL150_D90
200nmφ 90 mm150 nm/120 nm60-120 nmL200_D90
250nmφ 94 mm200 nm/100 nm90 bis 130 nmL250_D100
280nmφ 80 mm 200 nm/100 nm100~150 nmL280_D80
300nmφ 94 mm300 nm/100 nm100-160 nmL300_D100
380nmφ 94 mm400 nm/300 nm200-270 nmL380_D100
400nmφ 94 mm300 nm/150 nm100~200 nmL400_D100
470nmφ 94 mm500 nm/400 nm200-270 nmL470_D100
500nmφ 94 mm400 nm/200 nm150 bis 250 nmL500_D100
560nmφ 80 mm 400 nm/200 nm150~280 nmL560_D80
600nmφ 94 mm500 nm/250 nm150 bis 300 nmL600_D100
760nmφ 94 mm700 nm/600 nm320~430 nmL760_D100
800nmφ 94 mm600 nm/300 nm200-400 nmL800_D100
1000nmφ 94 mm800 nm/400 nm200-500 nmL1000_D100
1300nm75x55 mm²1000 nm/500 nm300~650 nmL1300_75x55
PeriodizitätEffektive FlächeMaximale Ätztiefe (Silizium)LinienbreiteModell
125nm18x18 mm²120 nm60 nmL125_18x18
150nm15x15 mm²150 nm75 nmL150_15x15
200nm20x20 mm²60 nm/90 nm100 nmL200_20x20
300nm30x30 mm²170 nm170 nmL300_30x30
375nm20x20 mm²264 nm240 nmL375_20x20
550nm20x20 mm²300 nm288 nmL550_20x20
600nm20x20 mm²100 nm400 nmL600_20x20
800nm20x20 mm²380 nm400 nmL800_20x20
1300nmφ 50 mm480 nm750 nmL1300_D50
4000nm32x32 mm²2000 nm/2300 nm2000 nmL4000_32x32
4800nm25x25 mm²2600 nm/3200 nm2200 nmL4800_25x25
PeriodizitätEffektive FlächeMaximale ÄtztiefeLinienbreiteModell
10μm20x20 mm²5 μm (Silizium)400 nmVL10_20x20
80 μmφ 100 mm7,5 μm (Ni)4 μmVL80_D100

Merkmale und Vorteile:

  1. Hohe Auflösung: Unsere Nanoimprint-Schablonen verfügen über ein ausgezeichnetes Auflösungsvermögen, mit dem komplexe Muster im Nanobereich erzeugt werden können. Diese hohe Auflösung macht sie ideal für die Untersuchung von Phänomenen im Nanobereich und die Herstellung von Nanobauteilen.

  2. Hohe Präzision: Unser Schablonenherstellungsprozess nutzt fortschrittliche Nanofabrikationstechnologie, um ein hohes Maß an Konsistenz und Präzision zu gewährleisten. Diese hohe Präzision gewährleistet, dass jede Schablone zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei der Musterübertragung liefert.

  3. Vielseitigkeit: Unsere Nanoimprinting-Schablone kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Sie kann für die Herstellung von nanoelektronischen Bauteilen wie Nanotransistoren und Nanodrähten verwendet werden. Sie kann auch für die Herstellung optoelektronischer Bauteile wie Nanogitter und photonische Kristalle verwendet werden. Darüber hinaus gibt es ein breites Spektrum von Anwendungen im biomedizinischen Bereich, wie die Herstellung von Biochips und Nanosensoren.

  4. Effizient: Unser Nanoimprint-Schablonenherstellungsprozess ist effizient und skalierbar. Es kann in Massenproduktion hergestellt werden und eignet sich für große Produktionsanforderungen. Diese hohe Effizienz macht unsere Produkte zur ersten Wahl für die Forschung in Industrie und Wissenschaft.

  5. Personalisierung: Wir können kundenspezifische Nano-Prägeschablonen anbieten, die den Bedürfnissen unserer Kunden entsprechen. Ob es sich um ein spezielles grafisches Design oder eine besondere Materialanforderung handelt, unser Team kann die beste Lösung für Sie maßschneidern.

Eine Nanoimprinting-Schablone (Drahtgittermatrix) ist eine Schlüsselkomponente für die Nanoimprinting-Technologie. Es handelt sich um eine Schablone, die aus Drahtgittermustern im Nanomaßstab besteht, die eine hochauflösende Musterübertragung auf die Oberfläche eines Zielmaterials ermöglichen.

Das Hauptmerkmal von nanoimprinted Stencils (Drahtgitterarrays) ist ihre Drahtgitterstruktur. Ein Drahtgitter ist ein Muster aus langen, dünnen, parallel angeordneten Streifen. Der Abstand und die Größe dieser Gitter können auf der Nanoskala genau gesteuert werden, typischerweise zwischen einigen zehn und hundert Nanometern. Die Form und die Anordnung der Gitter können so gestaltet werden, dass sie den spezifischen Anforderungen der Anwendung entsprechen.

Produktgenauigkeit:

Höhe/Tiefe: ± 15% Linienbreite: ± 10%

Durchmesser: ± 10% Defektbereich: < 1%

Spezifikationen für das Screening finden

Ähnliche Produkte, die Sie interessieren könnten

Ähnliche Produkte
eBooks
Harbor Semiconductor Katalog
Sie können das gewünschte Produkt nicht finden?
Wir bieten Ihnen einen auf Ihre Bedürfnisse zugeschnittenen Bearbeitungsservice.

Neueste Nachrichten

Die Geschichte unserer Fähigkeiten, unserer Forschung und des sich wandelnden Gesichts unseres Unternehmens.
Nach oben blättern

Scannen Sie den Code, um den WeChat-Kundendienst des Unternehmens hinzuzufügen: Tom

Scannen Sie den Code, um den WeChat-Kundendienst des Unternehmens hinzuzufügen: Tom