Der Unterschied zwischen LPCVD und PECVD
Unterschied zwischen LPCVD und PECVD Durch den Betrieb bei hohen Temperaturen in einer Niederdruckumgebung kann L
Nanoimprinted Schablonen - Säulenarrays
Anwendungen bei der Herstellung von Photonikgeräten, Nanofiltern und oberflächenverstärkter Raman-Spektroskopie zur Steuerung der Lichtausbreitung und der Wechselwirkungen zur Modulation und Verbesserung der optischen Eigenschaften
Datenblatt
Produktblatt für Nanoimprinting-Schablonen
Einzelheiten zum Produkt
-
Sechseckige Anordnungen
-
Sechseckiges Array II
-
Quadratische Arrays
-
Quadratisches Array II
-
Merkmale und Vorteile
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz) | Durchmesser der Säule | Modell |
| 200nm | φ94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | P200H_D100 |
| 350nm | φ50 mm | 350nm/150nm | 120~170 nm | P350H_D50 |
| 450nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 220~260 nm | P450H_D100 |
| 600nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 250~300 nm | P600H_D100 |
| 750nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250~350 nm | P750H_51x51 |
| 780nm | φ50 mm | 450nm/200nm | 250~350 nm | P780H_D50 |
| 870nm | φ94 mm | 550nm/250nm | 300~400 nm | P870H_D100 |
| 1000nm | φ94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | P1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | P1500H_51x51 |
| 1700nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | P1700H_D100 |
| 2000nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | P2000H_D100 |
| 3000nm | φ94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | P3000H_D100 |
| 3500nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~1600 nm | P3450H_D100 |
| 5200nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~2000 nm | P5200H_D100 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium) | Durchmesser der Säule | Modell |
| 200nm | 20x20 mm² | 90 nm | 110 nm | P200H_20x20 |
| 350nm | 20x20 mm² | 260 nm | 130 nm | P350H_20x20 |
| 400nm | 5x5 mm² | 100 nm | 140 nm | P400H_D100 |
| 600nm | 20x20 mm² | 310 nm | 300 nm | P600H_D100 |
| 750nm | 25x25 mm² | 260 nm | 325 nm | P750H_D100 |
| 1000nm | 20x20 mm² | 470 nm | 470 nm | P1000H_D100 |
| 1732nm | 20x20 mm² | 590 nm | 880 nm | P1732H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 5000 nm | 1400 nm | P3000H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1200 nm | 1800 nm | P3000H_D100 |
| 250nm | 14x14 mm² | 150 nm | 136 nm (konisch) | P250H_D100 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz) | Durchmesser der Säule | Modell |
| 125nm | φ90mm | 90nm/60nm | 50~70nm | P125S_D90 |
| 140nm | φ80mm | 75nm/ - | 50~75nm | P140S_D80 |
| 150nm | φ90mm | 75nm/ - | 60~85nm | P150S_D90 |
| 250nm | φ94mm | 200nm/100nm | 110~130nm | P250S_D90 |
| 280nm | Φ80mm | 200nm/100nm | 120~150nm | P280S_D80 |
| 300nm | φ94mm | 200nm/100nm | 120~160nm | P300S_D100 |
| 380nm | φ94mm | 400nm/300nm | 160~220nm | P380S_D100 |
| 400nm | φ94mm | 300nm/100nm | 150~220nm | P400S_D100 |
| 480nm | φ94mm | 500nm/400nm | 200~270nm | P480S_D100 |
| 500nm | φ94mm | 400nm/150nm | 200~250nm | P500S_D100 |
| 560nm | Φ80mm | 400nm/150nm | 200~280nm | P560S_D80 |
| 600nm | φ94mm | 500nm/250nm | 200~300nm | P600S_D100 |
| 760nm | φ94mm | 700nm/600nm | 330~430nm | P760S_D100 |
| 800nm | φ94mm | 500nm/300nm | 200~400nm | P800S_D100 |
| Periodizität | Effektive Fläche | Maximale Ätztiefe (Silizium) | Durchmesser der Säule | Modell |
| 125nm | 10x10 mm² | 95 nm | 54 nm | P125S_10x10 |
| 125nm | 20x20 mm² | 95 nm | 74 nm | P125S_20x20 |
| 150nm | 20x20 mm² | 135 nm | 62 nm | P150S_20x20 |
| 150nm | 5x5 mm² | 110 nm | 80 nm | P150S_5x5 |
| 250nm | 20x20 mm² | 200 nm | 115 nm | P250S_20x20 |
| 300nm | 14x14 mm² | 170 nm | 145 nm | P300S_D100 |
| 550nm | 20x20 mm² | 150nm/300nm | 300 nm | P380S_D100 |
| 800nm | 20x20 mm² | 250 nm | 440 nm | P400S_D100 |
Merkmale und Vorteile:
Hohe Auflösung: Unsere Nanoimprint-Schablonen verfügen über ein ausgezeichnetes Auflösungsvermögen, mit dem komplexe Muster im Nanobereich erzeugt werden können. Diese hohe Auflösung macht sie ideal für die Untersuchung von Phänomenen im Nanobereich und die Herstellung von Nanobauteilen.
Hohe Präzision: Unser Schablonenherstellungsprozess nutzt fortschrittliche Nanofabrikationstechnologie, um ein hohes Maß an Konsistenz und Präzision zu gewährleisten. Diese hohe Präzision gewährleistet, dass jede Schablone zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei der Musterübertragung liefert.
Vielseitigkeit: Unsere Nanoimprinting-Schablone kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Sie kann für die Herstellung von nanoelektronischen Bauteilen wie Nanotransistoren und Nanodrähten verwendet werden. Sie kann auch für die Herstellung optoelektronischer Bauteile wie Nanogitter und photonische Kristalle verwendet werden. Darüber hinaus gibt es ein breites Spektrum von Anwendungen im biomedizinischen Bereich, wie die Herstellung von Biochips und Nanosensoren.
Effizient: Unser Nanoimprint-Schablonenherstellungsprozess ist effizient und skalierbar. Es kann in Massenproduktion hergestellt werden und eignet sich für große Produktionsanforderungen. Diese hohe Effizienz macht unsere Produkte zur ersten Wahl für die Forschung in Industrie und Wissenschaft.
Personalisierung: Wir können kundenspezifische Nano-Prägeschablonen anbieten, die den Bedürfnissen unserer Kunden entsprechen. Ob es sich um ein spezielles grafisches Design oder eine besondere Materialanforderung handelt, unser Team kann die beste Lösung für Sie maßschneidern.
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