Nanoimprint-Schablone丨Well-Array-Präzisions-Nanojunction-Lösungen

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Schablonen mit Nano-Prägung - Löcher-Arrays

4"-Nanoschablone für Anwendungen wie Nanofilter, Nanosensoren usw. zur Steuerung des Transports, der Trennung und des Nachweises von Substanzen für hochempfindliche Analyse- und Nachweisverfahren

Datenblatt

Produktblatt für Nanoimprinting-Schablonen

Periodizität	Effektive Fläche	Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz)	Durchmesser der Bohrung	Modell
200nm	φ 94 mm	120nm/100nm	90-120 nm	H200H_D100
350nm	φ 94 mm	200nm/100nm	120-170 nm	H350H_D100
450nm	φ 50 mm	350nm/150nm	220-260 nm	H450H_D50
500nm	φ 94 mm	500nm/300nm	250-300 nm	H500H_D100
600nm	φ 94 mm	450nm/200nm	250-300 nm	H600H_D100
750nm	51x51 mm²	450nm/200nm	250-350 nm	H750H_51x51
780nm	φ 50 mm	450nm/200nm	250-380 nm	H780H_D50
870nm	φ 94 mm	550nm/250nm	300-45 nm	H870H_D100
1000nm	φ 94 mm	600nm/300nm	300~500 nm	H1000H_D100
1500nm	51x51 mm²	600nm/300nm	400~650 nm	H1500H_51x51
1700nm	φ 94 mm	800nm/400nm	500~800 nm	H1700H_D100
2000nm	φ 94 mm	800nm/400nm	600~1100 nm	H2000H_D100
3000nm	φ 94 mm	1000nm/400nm	600~1400 nm	H3000H_D100
3500nm	φ 94 mm	1200nm/500nm	800~1600 nm	H3500H_D100
5200nm	φ 94 mm	1200nm/500nm	1200~2400 nm	H5200H_D100

Periodizität	Effektive Fläche	Maximale Ätztiefe (Silizium)	Durchmesser der Bohrung	Modell
200nm	20x20 mm²	200 nm	100 nm	H200H_20x20
345nm	20x20 mm²	200 nm	227 nm	H345H_20x20
500nm	0,2x0,2 mm² (9x)	110 nm	50 nm	H500H_02x02
600nm	20x20 mm²	300 nm	300 nm	H600H_25x25
750nm	25x25 mm²	420 nm	380 nm	H750H_25x25
1000nm	0,2x0,2 mm² (9x)	110 nm	100 nm	H1000H_02x02
1010nm	15x15 mm²	300 nm	390 nm	H1010H_15x15
1010nm	25x25 mm²	300 nm	490 nm	H1010H_25x25
1010nm	25x25 mm²	350 nm	470 nm	H1010H_25x25
2000nm	0,2x0,2 mm² (9x)	110 nm	200 nm	H2000H_02x02
3000nm	20x20 mm²	850 nm	1500 nm	H3000H_20x20
3000nm	20x20 mm²	1500 nm	1200 nm	H3000H_20x20

Periodizität	Effektive Fläche	Maximale Ätztiefe (Silizium/Quarz)	Durchmesser der Bohrung	Modell
125nm	φ 90mm	150nm/100nm	50-70 nm	H125S_D90
125nm	20x20 mm²	90nm/-	65 nm	H125S_20x20
140nm	Φ 80mm	150nm/100nm	60~80 nm	H140S_D80
150nm	φ 90mm	150nm/100nm	60-90 nm	H150S_D90
150nm	5x5 mm²	100nm/-	65 nm	H150S_5x5
190nm	φ 94mm	180nm/140nm	85~115 nm	H190S_D100
200nm	φ 90mm	200nm/150nm	70-120 nm	H200S_D90
200nm	5x5 mm²	110nm/-	70 nm	H200S_5x5
235nm	φ 94mm	200nm/150nm	100 bis 135 nm	H235S_D100
250nm	5x5 mm²	110nm/-	70 nm	H250S_5x5
300nm	φ 90mm	200nm/150nm	120-180 nm	H300S_D90
350nm	φ 94mm	300nm/150nm	240 bis 280 nm	H350S_D100
350nm	20x20 mm²	300nm/-	250 nm	H350S_20x20
375nm	φ 94mm	200nm/100nm	150 bis 250 nm	H375S_D100

Merkmale und Vorteile:

Hohe Auflösung: Unsere Nanoimprint-Schablonen verfügen über ein ausgezeichnetes Auflösungsvermögen, mit dem komplexe Muster im Nanobereich erzeugt werden können. Diese hohe Auflösung macht sie ideal für die Untersuchung von Phänomenen im Nanobereich und die Herstellung von Nanobauteilen.
Hohe Präzision: Unser Schablonenherstellungsprozess nutzt fortschrittliche Nanofabrikationstechnologie, um ein hohes Maß an Konsistenz und Präzision zu gewährleisten. Diese hohe Präzision gewährleistet, dass jede Schablone zuverlässige und wiederholbare Ergebnisse bei der Musterübertragung liefert.
Vielseitigkeit: Unsere Nanoimprinting-Schablone kann in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt werden. Sie kann für die Herstellung von nanoelektronischen Bauteilen wie Nanotransistoren und Nanodrähten verwendet werden. Sie kann auch für die Herstellung optoelektronischer Bauteile wie Nanogitter und photonische Kristalle verwendet werden. Darüber hinaus gibt es ein breites Spektrum von Anwendungen im biomedizinischen Bereich, wie die Herstellung von Biochips und Nanosensoren.
Effizient: Unser Nanoimprint-Schablonenherstellungsprozess ist effizient und skalierbar. Es kann in Massenproduktion hergestellt werden und eignet sich für große Produktionsanforderungen. Diese hohe Effizienz macht unsere Produkte zur ersten Wahl für die Forschung in Industrie und Wissenschaft.
Personalisierung: Wir können kundenspezifische Nano-Prägeschablonen anbieten, die den Bedürfnissen unserer Kunden entsprechen. Ob es sich um ein spezielles grafisches Design oder eine besondere Materialanforderung handelt, unser Team kann die beste Lösung für Sie maßschneidern.

Sechseckige Lochanordnungen und rechteckige Lochanordnungen in Nanoimprint-Schablonen sind zwei gängige Muster lochartiger Strukturen, die für die präzise Übertragung und Präparation von Mustern im Nanomaßstab verwendet werden.

Diese beiden Arten von Lochreihenschablonen bieten eine hohe Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit bei der Präparation im Nanoimprinting und sind in der Lage, die Anforderungen an eine präzise Nanostrukturpräparation zu erfüllen. Sie bieten wichtige Werkzeuge und Lösungen für Bereiche wie die Nanofabrikation, die Forschung an Nanobauteilen und biomedizinische Anwendungen.

Spezifikationen für das Screening finden

Schablonen-Loch-Array mit Nano-Aufdruck 1

Nanodruck-Schablone - hexagonale Lochanordnung - Ansicht von oben

Nano-Imprint-Schablone - rechteckige Lochanordnung - Ansicht von oben

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