Diferencia entre LPCVD y PECVD
Diferencia entre LPCVD y PECVD Al funcionar a altas temperaturas en un entorno de baja presión, L
Plantillas con nanorrelieve - Rejillas de alambre
Plantillas de nanoimpresión de cuatro pulgadas para la transferencia de patrones de alta resolución a escala nanométrica. Muy utilizadas en aplicaciones de nanoelectrónica, optoelectrónica, biomedicina y fotónica.
Ficha técnica
Hoja de producto de plantillas de nanoimpresión
Detalles del producto
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio/cuarzo) | Anchura de línea | Modelo |
| 125 nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50~80 nm | L125_D80 |
| 140 nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50 a 85 nm | L140_D80 |
| 150 nm | φ 90 mm | 75 nm/80 nm | 60~100 nm | L150_D90 |
| 200 nm | φ 90 mm | 150 nm/120 nm | 60-120 nm | L200_D90 |
| 250 nm | φ 94 mm | 200 nm/100 nm | 90 a 130 nm | L250_D100 |
| 280 nm | φ 80 mm | 200 nm/100 nm | 100~150 nm | L280_D80 |
| 300 nm | φ 94 mm | 300 nm/100 nm | 100-160 nm | L300_D100 |
| 380 nm | φ 94 mm | 400 nm/300 nm | 200-270 nm | L380_D100 |
| 400 nm | φ 94 mm | 300 nm/150 nm | 100~200 nm | L400_D100 |
| 470 nm | φ 94 mm | 500 nm/400 nm | 200-270 nm | L470_D100 |
| 500 nm | φ 94 mm | 400 nm/200 nm | 150 a 250 nm | L500_D100 |
| 560 nm | φ 80 mm | 400 nm/200 nm | 150~280 nm | L560_D80 |
| 600 nm | φ 94 mm | 500 nm/250 nm | 150 a 300 nm | L600_D100 |
| 760 nm | φ 94 mm | 700 nm/600 nm | 320~430 nm | L760_D100 |
| 800 nm | φ 94 mm | 600 nm/300 nm | 200-400 nm | L800_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 800 nm/400 nm | 200-500 nm | L1000_D100 |
| 1300nm | 75x55 mm² | 1000 nm/500 nm | 300~650 nm | L1300_75x55 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio) | Anchura de línea | Modelo |
| 125 nm | 18x18 mm² | 120 nm | 60 nm | L125_18x18 |
| 150 nm | 15x15 mm² | 150 nm | 75 nm | L150_15x15 |
| 200 nm | 20x20 mm² | 60 nm/90 nm | 100 nm | L200_20x20 |
| 300 nm | 30x30 mm | 170 nm | 170 nm | L300_30x30 |
| 375 nm | 20x20 mm² | 264 nm | 240 nm | L375_20x20 |
| 550 nm | 20x20 mm² | 300 nm | 288 nm | L550_20x20 |
| 600 nm | 20x20 mm² | 100 nm | 400 nm | L600_20x20 |
| 800 nm | 20x20 mm² | 380 nm | 400 nm | L800_20x20 |
| 1300nm | φ 50 mm | 480 nm | 750 nm | L1300_D50 |
| 4000nm | 32x32 mm | 2000 nm/2300 nm | 2000 nm | L4000_32x32 |
| 4800nm | 25x25 mm | 2600 nm/3200 nm | 2200 nm | L4800_25x25 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado | Anchura de línea | Modelo |
| 10μm | 20x20 mm² | 5 μm (silicio) | 400 nm | VL10_20x20 |
| 80 μm | φ 100 mm | 7,5 μm (Ni) | 4 μm | VL80_D100 |
Características y ventajas:
Alta resolución: nuestras plantillas de nanoimpresión tienen una excelente capacidad de resolución, lo que permite obtener patrones complejos a escala nanométrica. Esta alta resolución las hace ideales para el estudio de fenómenos a nanoescala y la fabricación de nanodispositivos.
Alta precisión: Nuestro proceso de fabricación de esténciles utiliza tecnología avanzada de nanofabricación para garantizar un alto grado de consistencia y precisión. Esta alta precisión garantiza que cada esténcil proporcione resultados de transferencia de patrones fiables y repetibles.
Versatilidad: Nuestra plantilla de nanoimpresión puede utilizarse en una gran variedad de aplicaciones. Puede utilizarse para la fabricación de dispositivos nanoelectrónicos, como nanotransistores y nanocables. También puede utilizarse para la fabricación de dispositivos optoelectrónicos, como nanorrejillas y cristales fotónicos. Además, tiene una amplia gama de aplicaciones en el campo biomédico, como la fabricación de biochips y nanosensores.
Eficaz: Nuestro proceso de fabricación de esténciles de nanoimpresión es eficaz y escalable. Puede producirse en masa y es adecuado para necesidades de fabricación a gran escala. Esta alta eficiencia convierte a nuestros productos en la primera opción para la investigación en la industria y el mundo académico.
Personalización: podemos ofrecer esténciles de nanoestampado personalizados para satisfacer las necesidades de nuestros clientes. Tanto si se trata de un diseño gráfico específico como de un requisito de material especial, nuestro equipo puede adaptar la mejor solución para usted.
Una plantilla de nanoimpresión es un componente clave de la tecnología de nanoimpresión. Se trata de una plantilla formada por patrones de rejilla de alambre a nanoescala para la transferencia de patrones de alta resolución en la superficie de un material objetivo.
La principal característica de las plantillas nanoimpresas (matrices de rejilla de alambre) es su estructura de rejilla de alambre. Una rejilla metálica es un patrón de tiras largas y finas dispuestas en paralelo. El espaciado y el tamaño de estas rejillas pueden controlarse con precisión en la nanoescala, normalmente entre unas decenas y cientos de nanómetros. La forma y disposición de las rejillas pueden diseñarse y personalizarse para adaptarlas a los requisitos específicos de cada aplicación.
Precisión del producto:
Altura/Profundidad: ± 15% Anchura de línea: ± 10%
Diámetro: ± 10% Área del defecto: < 1%
Buscar especificaciones de cribado
Productos similares que pueden interesarle
Productos similares
¿No encuentra el producto que busca?
Ofrecemos un servicio de tramitación personalizado en función de sus necesidades.
Últimas noticias
La historia de nuestras capacidades, nuestra investigación y el rostro cambiante de nuestra empresa.
Principios del proceso y aplicaciones de los recubrimientos ópticos
Principios y aplicaciones de la tecnología de revestimiento óptico Los principios del proceso de revestimiento óptico intervienen principalmente en el elemento óptico
Influencia del proceso de recocido en la resistencia del platino
Influencia del proceso de recocido en las resistencias de platino En el campo de la medición de temperatura de alta precisión, se utilizan resistencias de platino de película fina debido a la
Proceso de sputtering magnetr丨nico para fabricar sensores de temperatura de platino.
Magnetron sputtering丨el proceso de fabricaci鏮 de sensores de temperatura de platino En la tecnolog燰 moderna, los sensores de temperatura.
