Diferencia entre LPCVD y PECVD
Diferencia entre LPCVD y PECVD Al funcionar a altas temperaturas en un entorno de baja presión, L
Patrones nanoimpresos - Matrices en columna
Aplicaciones en la fabricación de dispositivos fotónicos, nanofiltros y espectroscopia Raman mejorada en superficie para el control de la propagación de la luz y las interacciones para la modulación y mejora de las propiedades ópticas.
Ficha técnica
Hoja de producto de plantillas de nanoimpresión
Detalles del producto
-
Matrices hexagonales
-
Conjunto hexagonal II
-
Matrices cuadradas
-
Matriz cuadrada II
-
Características y ventajas
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio/cuarzo) | Diámetro de la columna | Modelo |
| 200 nm | φ94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | P200H_D100 |
| 350 nm | φ50 mm | 350nm/150nm | 120~170 nm | P350H_D50 |
| 450 nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 220~260 nm | P450H_D100 |
| 600 nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 250~300 nm | P600H_D100 |
| 750 nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250~350 nm | P750H_51x51 |
| 780 nm | φ50 mm | 450nm/200nm | 250~350 nm | P780H_D50 |
| 870 nm | φ94 mm | 550 nm/250 nm | 300~400 nm | P870H_D100 |
| 1000nm | φ94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | P1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | P1500H_51x51 |
| 1700nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | P1700H_D100 |
| 2000nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | P2000H_D100 |
| 3000nm | φ94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | P3000H_D100 |
| 3500nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~1600 nm | P3450H_D100 |
| 5200nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~2000 nm | P5200H_D100 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio) | Diámetro de la columna | Modelo |
| 200 nm | 20x20 mm² | 90 nm | 110 nm | P200H_20x20 |
| 350 nm | 20x20 mm² | 260 nm | 130 nm | P350H_20x20 |
| 400 nm | 5x5 mm² | 100 nm | 140 nm | P400H_D100 |
| 600 nm | 20x20 mm² | 310 nm | 300 nm | P600H_D100 |
| 750 nm | 25x25 mm | 260 nm | 325 nm | P750H_D100 |
| 1000nm | 20x20 mm² | 470 nm | 470 nm | P1000H_D100 |
| 1732nm | 20x20 mm² | 590 nm | 880 nm | P1732H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 5000 nm | 1400 nm | P3000H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1200 nm | 1800 nm | P3000H_D100 |
| 250 nm | 14x14 mm² | 150 nm | 136 nm (cónica) | P250H_D100 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio/cuarzo) | Diámetro de la columna | Modelo |
| 125 nm | φ90mm | 90nm/60nm | 50~70nm | P125S_D90 |
| 140 nm | φ80mm | 75nm/ - | 50~75nm | P140S_D80 |
| 150 nm | φ90mm | 75nm/ - | 60~85nm | P150S_D90 |
| 250 nm | φ94mm | 200nm/100nm | 110~130nm | P250S_D90 |
| 280 nm | Φ80mm | 200nm/100nm | 120~150nm | P280S_D80 |
| 300 nm | φ94mm | 200nm/100nm | 120~160nm | P300S_D100 |
| 380 nm | φ94mm | 400nm/300nm | 160~220nm | P380S_D100 |
| 400 nm | φ94mm | 300 nm/100 nm | 150~220nm | P400S_D100 |
| 480 nm | φ94mm | 500nm/400nm | 200~270nm | P480S_D100 |
| 500 nm | φ94mm | 400nm/150nm | 200~250nm | P500S_D100 |
| 560 nm | Φ80mm | 400nm/150nm | 200~280nm | P560S_D80 |
| 600 nm | φ94mm | 500 nm/250 nm | 200~300nm | P600S_D100 |
| 760 nm | φ94mm | 700nm/600nm | 330~430nm | P760S_D100 |
| 800 nm | φ94mm | 500nm/300nm | 200~400nm | P800S_D100 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio) | Diámetro de la columna | Modelo |
| 125 nm | 10x10 mm² | 95 nm | 54 nm | P125S_10x10 |
| 125 nm | 20x20 mm² | 95 nm | 74 nm | P125S_20x20 |
| 150 nm | 20x20 mm² | 135 nm | 62 nm | P150S_20x20 |
| 150 nm | 5x5 mm² | 110 nm | 80 nm | P150S_5x5 |
| 250 nm | 20x20 mm² | 200 nm | 115 nm | P250S_20x20 |
| 300 nm | 14x14 mm² | 170 nm | 145 nm | P300S_D100 |
| 550 nm | 20x20 mm² | 150nm/300nm | 300 nm | P380S_D100 |
| 800 nm | 20x20 mm² | 250 nm | 440 nm | P400S_D100 |
Características y ventajas:
Alta resolución: nuestras plantillas de nanoimpresión tienen una excelente capacidad de resolución, lo que permite obtener patrones complejos a escala nanométrica. Esta alta resolución las hace ideales para el estudio de fenómenos a nanoescala y la fabricación de nanodispositivos.
Alta precisión: Nuestro proceso de fabricación de esténciles utiliza tecnología avanzada de nanofabricación para garantizar un alto grado de consistencia y precisión. Esta alta precisión garantiza que cada esténcil proporcione resultados de transferencia de patrones fiables y repetibles.
Versatilidad: Nuestra plantilla de nanoimpresión puede utilizarse en una gran variedad de aplicaciones. Puede utilizarse para la fabricación de dispositivos nanoelectrónicos, como nanotransistores y nanocables. También puede utilizarse para la fabricación de dispositivos optoelectrónicos, como nanorrejillas y cristales fotónicos. Además, tiene una amplia gama de aplicaciones en el campo biomédico, como la fabricación de biochips y nanosensores.
Eficaz: Nuestro proceso de fabricación de esténciles de nanoimpresión es eficaz y escalable. Puede producirse en masa y es adecuado para necesidades de fabricación a gran escala. Esta alta eficiencia convierte a nuestros productos en la primera opción para la investigación en la industria y el mundo académico.
Personalización: podemos ofrecer esténciles de nanoestampado personalizados para satisfacer las necesidades de nuestros clientes. Tanto si se trata de un diseño gráfico específico como de un requisito de material especial, nuestro equipo puede adaptar la mejor solución para usted.
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