Diferencia entre LPCVD y PECVD Al funcionar a altas temperaturas en un entorno de baja presión, el LPCVD es capaz de producir películas de alta calidad, densas y homogéneas.

Principios y aplicaciones de la tecnología de revestimiento óptico El principio del proceso de revestimiento óptico consiste principalmente en la deposición de una o varias capas sobre la superficie de un elemento óptico (por ejemplo, una lente, un espejo, un prisma, etc.).

Efecto del proceso de recocido en las resistencias de platino En el campo de la medición de temperatura de alta precisión, las resistencias de platino de capa fina están sustituyendo gradualmente a las tradicionales debido a su gran estabilidad y alta precisión.

Magnetron sputtering丨process for making platinum temperature sensors En el campo de la ciencia y la tecnología modernas, los sensores de temperatura desempeñan un papel importante como dispositivos de medición clave en diversas industrias.

Películas delgadas de nitruro de silicio en aplicaciones ópticas Las películas delgadas de nitruro de silicio, como material típico de películas delgadas ópticas, tienen importantes aplicaciones en el campo de las películas delgadas ópticas.

Preparación de láminas delgadas de nitruro de titanio (TiN) mediante el proceso ALD Las láminas delgadas de nitruro de titanio (TiN) preparadas mediante el proceso de deposición de capas atómicas (ALD) tienen una dureza elevada y una temperatura baja.

Diferencias entre ICPCVD y PECVD para la preparación de películas delgadas de nitruro de silicio ICPCVD (Inductively Coupled)

Variación del Índice de Refracción y del Coeficiente de Absorción del Silicio Amorfo a Diferentes Longitudes de Onda En el estudio de las propiedades ópticas del silicio amorfo, el índice de refracción (n) y el coeficiente de absorción (k) son