Diferencia entre LPCVD y PECVD
Diferencia entre LPCVD y PECVD Al funcionar a altas temperaturas en un entorno de baja presión, L
Ventana de película fina de nitruro de silicio de sincrotrón (rayos X)
Ampliamente utilizado en análisis de fluorescencia de rayos X, espectroscopia de energía de electrones, difracción de rayos X y absorción de rayos X. Fabricado mediante el proceso de fabricación MEMS más avanzado.
Ficha técnica
Ventanas de película fina de nitruro de silicio Hoja de producto
Detalles del producto
Unidades de venta
10 unidades/paquete
Tamaño del chip
5 x 5 mm, 7,5 x 7,5 mm, 10 x 10 mm
Grosor de la viruta
200 μm
Espesor de la película
10 nm, 20 nm, 30 nm, 50 nm, 100 nm, 200 nm
Tamaño de la ventana
0,1 x 0,1, 0,25 x 0,25, 0,5 x 0,5, 1 x 1, 1,5 x 1,5, 2 x 2, 3 x 3, 5 x 5 mm
Número de ventanas
1 unidad
Tamaño de apertura
Sin agujeros
Condiciones de estrés
<250MPa
Ventajas de las películas de nitruro de silicio:
- Resistente a ácidos y alcalinos: las muestras pueden manipularse y estudiarse en condiciones ácidas y alcalinas.
- Resistencia a altas temperaturas: las películas pueden soportar temperaturas de hasta 1000°C
- Sin carbono, fácil de limpiar
- Gran visión
- Compatibilidad con una amplia gama de microscopios: por ejemplo, TEM, SEM, FIB, EDX, Auger, XPS y AFM/SPM.
Ventajas de nuestros productos:
- Películas robustas de nitruro de silicio de 10, 20, 30, 50, 100 y 200 nm de espesor
- Especificación estándar: totalmente compatible con los soportes TEM estándar de 3,05 mm.
- Disponible en grosores de marco estándar de 200 µm y más fino de 100 µm
- Películas de nitruro de silicio hidrófilas/hidrófobas disponibles bajo pedido.
- Película de nitruro de silicio limpia y extremadamente plana
- Con gran resistencia y planitud
- Poco estrés
Nuestras películas de soporte de nitruro de silicio se fabrican utilizando las tecnologías de fabricación de semiconductores y MEMS más avanzadas. Las películas de soporte de nitruro de silicio amorfo se cultivan en obleas de silicio hasta alcanzar el grosor de película necesario de 10, 20, 30, 50, 100 o 200 nm.
El área de visualización de la muestra se crea mediante el grabado de una ventana en el sustrato de silicio, dejando una película de nitruro de silicio perfectamente lisa, flexible y químicamente estable. El marco se fabrica utilizando un disco de silicio de 3 mm. Se adapta perfectamente a las monturas TEM estándar. El grosor estándar del marco de silicio es de 100µm/200µm, adecuado para la mayoría de las monturas TEM.
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