Diferencia entre LPCVD y PECVD
Diferencia entre LPCVD y PECVD Al funcionar a altas temperaturas en un entorno de baja presión, L
Plantillas con nanorrelieve - Conjuntos de orificios
Plantilla nanoimpresa de 4" para aplicaciones como nanofiltros, nanosensores, etc. para controlar el transporte, la separación y la detección de sustancias para capacidades de análisis y detección de alta sensibilidad.
Ficha técnica
Hoja de producto de plantillas de nanoimpresión
Detalles del producto
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Matrices hexagonales
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Conjunto hexagonal II
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Matrices cuadradas
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Características y ventajas
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Descripción
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio/cuarzo) | Diámetro del orificio | Modelo |
| 200 nm | φ 94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | H200H_D100 |
| 350 nm | φ 94 mm | 200nm/100nm | 120-170 nm | H350H_D100 |
| 450 nm | φ 50 mm | 350nm/150nm | 220-260 nm | H450H_D50 |
| 500 nm | φ 94 mm | 500nm/300nm | 250-300 nm | H500H_D100 |
| 600 nm | φ 94 mm | 450nm/200nm | 250-300 nm | H600H_D100 |
| 750 nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250-350 nm | H750H_51x51 |
| 780 nm | φ 50 mm | 450nm/200nm | 250-380 nm | H780H_D50 |
| 870 nm | φ 94 mm | 550 nm/250 nm | 300-45 nm | H870H_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | H1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | H1500H_51x51 |
| 1700nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | H1700H_D100 |
| 2000nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | H2000H_D100 |
| 3000nm | φ 94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | H3000H_D100 |
| 3500nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 800~1600 nm | H3500H_D100 |
| 5200nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 1200~2400 nm | H5200H_D100 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio) | Diámetro del orificio | Modelo |
| 200 nm | 20x20 mm² | 200 nm | 100 nm | H200H_20x20 |
| 345 nm | 20x20 mm² | 200 nm | 227 nm | H345H_20x20 |
| 500 nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 50 nm | H500H_02x02 |
| 600 nm | 20x20 mm² | 300 nm | 300 nm | H600H_25x25 |
| 750 nm | 25x25 mm | 420 nm | 380 nm | H750H_25x25 |
| 1000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 100 nm | H1000H_02x02 |
| 1010nm | 15x15 mm² | 300 nm | 390 nm | H1010H_15x15 |
| 1010nm | 25x25 mm | 300 nm | 490 nm | H1010H_25x25 |
| 1010nm | 25x25 mm | 350 nm | 470 nm | H1010H_25x25 |
| 2000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 200 nm | H2000H_02x02 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 850 nm | 1500 nm | H3000H_20x20 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1500 nm | 1200 nm | H3000H_20x20 |
| Periodicidad | Área efectiva | Profundidad máxima de grabado (silicio/cuarzo) | Diámetro del orificio | Modelo |
| 125 nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 50-70 nm | H125S_D90 |
| 125 nm | 20x20 mm² | 90nm/- | 65 nm | H125S_20x20 |
| 140 nm | Φ 80mm | 150nm/100nm | 60~80 nm | H140S_D80 |
| 150 nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 60-90 nm | H150S_D90 |
| 150 nm | 5x5 mm² | 100nm/- | 65 nm | H150S_5x5 |
| 190 nm | φ 94mm | 180nm/140nm | 85~115 nm | H190S_D100 |
| 200 nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 70-120 nm | H200S_D90 |
| 200 nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H200S_5x5 |
| 235 nm | φ 94mm | 200nm/150nm | 100 a 135 nm | H235S_D100 |
| 250 nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H250S_5x5 |
| 300 nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 120-180 nm | H300S_D90 |
| 350 nm | φ 94mm | 300 nm/150 nm | 240 a 280 nm | H350S_D100 |
| 350 nm | 20x20 mm² | 300 nm/- | 250 nm | H350S_20x20 |
| 375 nm | φ 94mm | 200nm/100nm | 150 a 250 nm | H375S_D100 |
Características y ventajas:
Alta resolución: nuestras plantillas de nanoimpresión tienen una excelente capacidad de resolución, lo que permite obtener patrones complejos a escala nanométrica. Esta alta resolución las hace ideales para el estudio de fenómenos a nanoescala y la fabricación de nanodispositivos.
Alta precisión: Nuestro proceso de fabricación de esténciles utiliza tecnología avanzada de nanofabricación para garantizar un alto grado de consistencia y precisión. Esta alta precisión garantiza que cada esténcil proporcione resultados de transferencia de patrones fiables y repetibles.
Versatilidad: Nuestra plantilla de nanoimpresión puede utilizarse en una gran variedad de aplicaciones. Puede utilizarse para la fabricación de dispositivos nanoelectrónicos, como nanotransistores y nanocables. También puede utilizarse para la fabricación de dispositivos optoelectrónicos, como nanorrejillas y cristales fotónicos. Además, tiene una amplia gama de aplicaciones en el campo biomédico, como la fabricación de biochips y nanosensores.
Eficaz: Nuestro proceso de fabricación de esténciles de nanoimpresión es eficaz y escalable. Puede producirse en masa y es adecuado para necesidades de fabricación a gran escala. Esta alta eficiencia convierte a nuestros productos en la primera opción para la investigación en la industria y el mundo académico.
Personalización: podemos ofrecer esténciles de nanoestampado personalizados para satisfacer las necesidades de nuestros clientes. Tanto si se trata de un diseño gráfico específico como de un requisito de material especial, nuestro equipo puede adaptar la mejor solución para usted.
Las matrices de agujeros hexagonales y las matrices de agujeros rectangulares en plantillas nanoimpresas son dos patrones habituales de estructuras similares a agujeros que se utilizan para conseguir una transferencia y preparación precisas de patrones a nanoescala.
Estos dos tipos de plantillas de matrices de agujeros ofrecen una gran uniformidad de preparación y reproducibilidad durante la nanoimpresión y son capaces de satisfacer las demandas de preparación de nanoestructuras de precisión. Proporcionan herramientas y soluciones importantes para ámbitos como la nanofabricación, la investigación de nanodispositivos y las aplicaciones biomédicas.
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