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Procesado micro-nano

Proceso de revestimiento

¿Qué es el revestimiento?

El recubrimiento (deposición de película fina) es un proceso por el cual se deposita una película fina sobre la superficie de un material mediante un proceso de recubrimiento, alterando así las propiedades del material o aumentando su funcionalidad. El proceso de recubrimiento se utiliza ampliamente en los campos de la ciencia de materiales, la fabricación de semiconductores, la óptica y la electrónica.

Los principales procesos de recubrimiento son la deposición física de vapor (PVD), la deposición química de vapor (CVD) y la deposición de capas atómicas (ALD).

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material de revestimiento

Materiales metálicos:
Ti (titanio), Al (aluminio), Cr (cromo), Pt (platino), Bi (bismuto), Mo (molibdeno), W (wolframio), Ta (tántalo), Ni (níquel), Au (oro), Ag (plata), Sn (estaño), In (indio), Ge (germanio) y otros.

Materiales compuestos:
SiO2 (dióxido de silicio), SiNx (nitruro de silicio), ITO (óxido de indio y estaño), Al2O3 (óxido de aluminio), Ta2O5 (óxido de tántalo), TiO2 (dióxido de titanio), AlN (nitruro de aluminio), TaN (nitruro de tántalo), ZnO (óxido de cinc), HfO2 (óxido de hafnio), ZrO2 (óxido de circonio), Si3N4 (nitruro de silicio), PZT ( PbZT (Titanato de circonio y plomo), ScAlN (Nitruro de aluminio y escandio), AuSn (Estaño dorado), TiAl (Aluminio titanio), TiNi (Níquel titanio), TiW (Tungsteno titanio), TiN (Nitruro de titanio), AuBe (Berilio dorado), AuGeNi (Níquel germanio dorado), etc.

Tecnología de revestimiento

Magnetrón metálico, magnetrón dieléctrico, evaporación por haz de electrones, evaporación térmica, PECVD, LPCVD, ICPCVD, PVD, deposición de capas atómicas ALD

 

Procesado micro-nano

Subcontratación CVD

El proceso CVD (deposición química en fase vapor) permite la deposición de películas uniformes y de alta calidad, adaptadas a las necesidades específicas de diferentes industrias y aplicaciones, espesores y composiciones de película controlables, adecuadas para superficies de sustrato de estructura compleja, y se realiza a temperaturas elevadas para aumentar la velocidad de reacción y la cristalinidad de la película.

Procesado micro-nano

Subcontratación de PVD

El proceso PVD (deposición física de vapor) consigue una deposición uniforme y de alta calidad de la película, satisface las necesidades específicas de cada industria, permite controlar el grosor y la composición de la película, es adecuado para superficies de sustrato con estructuras complejas y se lleva a cabo a temperaturas más bajas, lo que reduce el riesgo de estrés térmico en el sustrato.

Procesado micro-nano

ALD OEM

El proceso ALD (deposición de capas atómicas) consigue una deposición de película extremadamente uniforme y densa, cumple los requisitos específicos de la industria, proporciona un control de altísima precisión del grosor y la composición de la película y es adecuado para una amplia gama de sustratos y superficies complejas, al tiempo que funciona a bajas temperaturas, lo que ayuda a reducir el riesgo de estrés térmico en el sustrato.
Proceso de personalización

1. Necesidades de comunicación

En función de sus necesidades, nuestros ingenieros de I+D desarrollarán la solución de procesamiento óptima

2. Oferta del programa

Presupuesto basado en la solución de tratamiento

3. Producción y control de calidad

Control de calidad y plena responsabilidad de que sus productos cumplan nuestras normas de producción

4. Entrega en el plazo previsto

Entregarle el producto en el plazo previsto de una semana

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