Différence entre LPCVD et PECVD
Différence entre LPCVD et PECVD En opérant à des températures élevées dans un environnement à basse pression, L
Pochoirs nano-embossés - Réseaux de fils métalliques
Pochoirs de nano-impression de 4 pouces pour le transfert de motifs à haute résolution à l'échelle nanométrique. Largement utilisés dans les applications nanoélectroniques, optoélectroniques, biomédicales et photoniques.
Fiche technique
Fiche produit des pochoirs de nano-impression
Détails du produit
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium/quartz) | Largeur de la ligne | Modèle |
| 125nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50~80 nm | L125_D80 |
| 140nm | φ 80 mm | 100 nm/80 nm | 50 à 85 nm | L140_D80 |
| 150 nm | φ 90 mm | 75 nm/80 nm | 60~100 nm | L150_D90 |
| 200nm | φ 90 mm | 150 nm/120 nm | 60-120 nm | L200_D90 |
| 250nm | φ 94 mm | 200 nm/100 nm | 90 à 130 nm | L250_D100 |
| 280nm | φ 80 mm | 200 nm/100 nm | 100~150 nm | L280_D80 |
| 300nm | φ 94 mm | 300 nm/100 nm | 100-160 nm | L300_D100 |
| 380nm | φ 94 mm | 400 nm/300 nm | 200-270 nm | L380_D100 |
| 400 nm | φ 94 mm | 300 nm/150 nm | 100~200 nm | L400_D100 |
| 470nm | φ 94 mm | 500 nm/400 nm | 200-270 nm | L470_D100 |
| 500nm | φ 94 mm | 400 nm/200 nm | 150 à 250 nm | L500_D100 |
| 560 nm | φ 80 mm | 400 nm/200 nm | 150~280 nm | L560_D80 |
| 600nm | φ 94 mm | 500 nm/250 nm | 150 à 300 nm | L600_D100 |
| 760nm | φ 94 mm | 700 nm/600 nm | 320~430 nm | L760_D100 |
| 800nm | φ 94 mm | 600 nm/300 nm | 200-400 nm | L800_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 800 nm/400 nm | 200-500 nm | L1000_D100 |
| 1300nm | 75x55 mm² | 1000 nm/500 nm | 300~650 nm | L1300_75x55 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium) | Largeur de la ligne | Modèle |
| 125nm | 18x18 mm² | 120 nm | 60 nm | L125_18x18 |
| 150 nm | 15x15 mm² | 150 nm | 75 nm | L150_15x15 |
| 200nm | 20x20 mm² | 60 nm/90 nm | 100 nm | L200_20x20 |
| 300nm | 30x30 mm² | 170 nm | 170 nm | L300_30x30 |
| 375nm | 20x20 mm² | 264 nm | 240 nm | L375_20x20 |
| 550nm | 20x20 mm² | 300 nm | 288 nm | L550_20x20 |
| 600nm | 20x20 mm² | 100 nm | 400 nm | L600_20x20 |
| 800nm | 20x20 mm² | 380 nm | 400 nm | L800_20x20 |
| 1300nm | φ 50 mm | 480 nm | 750 nm | L1300_D50 |
| 4000nm | 32x32 mm² | 2000 nm/2300 nm | 2000 nm | L4000_32x32 |
| 4800nm | 25x25 mm² | 2600 nm/3200 nm | 2200 nm | L4800_25x25 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale | Largeur de la ligne | Modèle |
| 10μm | 20x20 mm² | 5 μm (silicium) | 400 nm | VL10_20x20 |
| 80 μm | φ 100 mm | 7,5 μm (Ni) | 4 μm | VL80_D100 |
Caractéristiques et avantages :
Haute résolution : nos pochoirs de nano-impression ont d'excellentes capacités de résolution, ce qui permet de réaliser des motifs complexes à l'échelle nanométrique. Cette haute résolution en fait un outil idéal pour l'étude des phénomènes à l'échelle nanométrique et la fabrication de nanodispositifs.
Haute précision : notre processus de fabrication des pochoirs utilise une technologie de nanofabrication avancée pour garantir un degré élevé de cohérence et de précision. Cette haute précision garantit que chaque pochoir fournit des résultats fiables et reproductibles en matière de transfert de motifs.
Polyvalence : notre pochoir de nanoimpression peut être utilisé dans une grande variété d'applications. Il peut être utilisé pour la fabrication de dispositifs nanoélectroniques tels que les nanotransistors et les nanofils. Il peut également être utilisé pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques, tels que les nano-grilles et les cristaux photoniques. En outre, il a un large éventail d'applications dans le domaine biomédical, comme la fabrication de biopuces et de nanocapteurs.
Efficacité : notre procédé de fabrication de pochoirs à nanoimpression est efficace et évolutif. Il peut être produit en masse et convient aux besoins de fabrication à grande échelle. Cette efficacité élevée fait de nos produits le premier choix pour la recherche dans l'industrie et les universités.
Personnalisation : Nous pouvons fournir des pochoirs de nano-embossage personnalisés pour répondre aux besoins de nos clients. Qu'il s'agisse d'une conception graphique spécifique ou d'un matériau particulier, notre équipe peut vous proposer la meilleure solution.
Un gabarit de nanoimpression (réseau de fils) est un élément clé de la technologie de la nanoimpression. Il s'agit d'un gabarit constitué de grilles de fils à l'échelle nanométrique pour le transfert de motifs à haute résolution sur la surface d'un matériau cible.
La principale caractéristique des pochoirs nanoimprimés (réseaux de fils) est leur structure en treillis métallique. Un réseau de fils est un motif de longues bandes minces disposées en parallèle. L'espacement et la taille de ces grilles peuvent être contrôlés avec précision à l'échelle nanométrique, généralement entre quelques dizaines et centaines de nanomètres. La forme et la disposition des grilles peuvent être conçues et personnalisées pour répondre aux exigences d'une application spécifique.
Précision du produit :
Hauteur/profondeur : ± 15% Largeur de ligne : ± 10%
Diamètre : ± 10% Surface du défaut : < 1%
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