Différence entre LPCVD et PECVD En opérant à des températures élevées dans un environnement à basse pression, la LPCVD est capable de produire des films de haute qualité, denses et homogènes.

Principes et applications de la technologie des revêtements optiques Le principe du processus de revêtement optique implique principalement le dépôt d'une ou plusieurs couches sur la surface d'un élément optique (par exemple, une lentille, un miroir, un prisme, etc.).

Effet du processus de recuit sur les résistances en platine Dans le domaine de la mesure de température de haute précision, les résistances en platine à couche mince remplacent progressivement les résistances traditionnelles en raison de leur grande stabilité et de leur haute précision.

Procédé de pulvérisation cathodique magnétron pour la fabrication de capteurs de température en platine Dans le domaine des sciences et technologies modernes, les capteurs de température jouent un rôle important en tant qu'appareils de mesure clés dans diverses industries.

Les films minces de nitrure de silicium dans les applications optiques Les films minces de nitrure de silicium, en tant que matériau typique des films minces optiques, ont des applications importantes dans le domaine des films minces optiques.

Préparation de films minces de nitrure de titane (TiN) par le procédé ALD Les films minces de nitrure de titane (TiN) préparés par le procédé de dépôt de couches atomiques (ALD) ont une dureté élevée et une faible température.

Différences entre ICPCVD et PECVD pour la préparation de films minces de nitrure de silicium ICPCVD (Inductively Coupled)

Variation de l'indice de réfraction et du coefficient d'absorption du silicium amorphe à différentes longueurs d'onde Dans l'étude des propriétés optiques du silicium amorphe, l'indice de réfraction (n) et le coefficient d'absorption (k) sont les suivants