PECVD ou pulvérisation magnétron : quelle technologie est la plus adaptée à la préparation de couches minces de silicium amorphe ? La recherche sur les cellules solaires à couches minces de silicium est un point névralgique international dans le domaine du photovoltaïque.
Quelles sont les propriétés et les applications des films de dioxyde de silicium préparés par évaporation par faisceau d'électrons ? Le dioxyde de silicium est un composé inorganique dont la formule chimique est SiO2, combinaison de silicium et d'oxygène.
Quelles sont les caractéristiques et les applications du dioxyde de vanadium préparé par pulvérisation magnétron La pulvérisation magnétron est largement utilisée dans la préparation de films minces de VO2, le matériau cible est généralement utilisé en haute pureté.
Propriétés et applications du nitrure de titane Le film de nitrure de titane (TiN) est un matériau important pour le revêtement des films durs, et c'est aussi le premier film industrialisé et largement utilisé.
Quelles sont les propriétés particulières des nanofilms ? Les nanosciences et technologies sont une science nouvelle et complète qui s'est développée depuis les années 1980.
Films minces de silicium polycristallin丨Effets de contrainte sur les films minces Lorsqu'un film mince est fixé à un substrat, s'il est soumis à une sorte de force de source de contrainte, la longueur du film changera. Les films minces
Films minces de silicium polycristallin丨influence sur le gauchissement des plaquettes Dans de nombreux cas, le stress peut entraîner des résultats indésirables. L'utilisation de la technique LPCVD pour déposer des couches minces de silicium polycristallin peut avoir une influence sur le gauchissement des plaquettes.
Films minces de polysilicium丨Facteurs divers affectant les propriétés de surface Il existe de nombreuses façons de produire des films minces de polysilicium, qui peuvent être classées en deux catégories selon le processus de préparation, à savoir les méthodes de préparation directe.
