Propriétés des films de diamant et leurs applications Le diamant possède une série d'excellentes propriétés, notamment la dureté la plus élevée de toutes les substances connues, un module d'élasticité, une résistance à l'usure, une résistance extrêmement élevée à l'abrasion et à l'usure.

Principes et caractéristiques de la préparation de couches minces par pulvérisation La technologie de pulvérisation est un type de dépôt physique en phase vapeur (PVD), qui peut être utilisé pour préparer une large gamme de couches minces telles que les isolants et les métaux.

Principes et avantages du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PE-CVD) Le PECVD est une technologie qui complète à la fois les technologies CVD et PVD.

Pourquoi choisir le faisceau d'électrons (EB-PVD) pour l'évaporation sous vide Qu'est-ce que l'évaporation sous vide L'évaporation sous vide est un processus par lequel une substance passe de l'état solide ou liquide à l'état gazeux.

La nucléation et la croissance des couches minces La nucléation et la croissance des couches minces constituent une étape essentielle de la technologie des revêtements. La phase de nucléation implique la formation de minuscules noyaux du matériau déposé à la surface du substrat.

Quels sont les facteurs qui influencent le processus de revêtement par pulvérisation cathodique sur les matériaux en couches minces ? En bombardant la surface d'un solide avec des particules énergétiques (généralement des ions positifs accélérés par un champ électrique), le solide se transforme en une couche mince.

Pulvérisation magnétron 丨 raisons affectant la qualité des films minces La pulvérisation magnétron présente les avantages d'une vitesse élevée, d'une faible température, d'un faible endommagement, d'une facilité particulière à produire en continu des couches de film de grande surface, d'une facilité de production de films de grande taille, d'une facilité de production de films de grande taille.