Influence du processus de recuit sur la résistance du platine
Dans le domaine de la mesure de température de haute précision, les résistances en platine à couche mince remplacent progressivement les résistances traditionnelles à fil de platine en raison de leur grande stabilité et de leur haute précision. Le processus de recuit est une étape clé dans l'optimisation des performances des résistances en platine à couche mince, et la résistance thermique des couches minces de platine peut être améliorée de manière significative par un processus de recuit raisonnable.
Préparation de résistances en platine
Le processus de préparation d'une résistance en platine comprend généralement les étapes suivantes :
- préparation du substrat
- Photolithographie
- dépôt par pulvérisation magnétron
- retraiter
- chauffer(recuit (métallurgie))traiter avec
Influence du processus de recuit
stabilité thermique
- Le traitement de recuit améliore la stabilité thermique du film, ce qui lui permet de se comporter de manière plus cohérente dans des environnements à haute température.
- Le recuit à haute température élimine les contraintes du film et empêche la déformation de la structure lors des changements de température.
- Améliore la fiabilité et la durée de vie des capteurs dans les environnements à haute température.
conductivité thermique
- Au cours du processus de recuit, la croissance des grains et l'amélioration de la qualité cristalline augmentent la conductivité thermique du film.
- Les films à gros grains et à forte cristallinité ont une meilleure conductivité thermique et une résistance thermique réduite.
- Améliorer la vitesse de réponse et la précision du capteur afin qu'il puisse refléter plus rapidement les changements de température.
Coefficient de résistance à la température (TCR)
- Le traitement de recuit augmente le coefficient de résistance à la température (TCR) du film de platine, ce qui rend la valeur de la résistance plus sensible aux changements de température.
- Une valeur TCR élevée contribue à augmenter la sensibilité du capteur aux variations de température.
- L'amélioration de la sensibilité et de la précision du capteur lui permet de mesurer plus précisément les variations de température.
Résistance Stabilité
- Le recuit réduit les défauts et les inhomogénéités dans le film et réduit la dérive de la résistance.
- La structure du film recuit est plus stable et la valeur de résistance est plus stable.
- Améliore la stabilité et la fiabilité des capteurs sur de longues périodes et réduit les besoins de maintenance.
Comment améliorer le processus de recuit
Le processus de recuit améliore considérablement la microstructure et les caractéristiques de résistance thermique des films de platine grâce à des traitements de chauffage et de maintien.
- Effet de la température de recuit sur les propriétésEntre 500 et 600°C, plus la température de recuit est élevée, plus la sensibilité et la linéarité sont grandes et peuvent être ajustées en fonction de l'environnement réel de l'application.
- Effet du temps de maintienA 500°C, un temps de maintien de 60 minutes peut améliorer de manière significative la sensibilité et la linéarité. Cependant, des temps de maintien prolongés au-dessus de 500°C entraîneront une diminution des performances.
- Influence de la rugosité du substratRugosité du substrat : Une rugosité plus élevée du substrat (par exemple 230 nm) peut améliorer sensiblement la sensibilité, mais doit être maintenue dans des limites raisonnables pour éviter d'affecter la continuité du film.
Si vous avez des questions ou si vous souhaitez obtenir de plus amples informations sur le processus de recuit lors de la platinisation, n'hésitez pas à nous contacter. Nous nous engageons à fournir à nos clients des solutions de haute qualité et de haute performance.
Nous proposons Service de personnalisation de la fonderie par pulvérisation cathodique magnétronN'hésitez pas à laisser un commentaire.
Applications des fenêtres en couches minces de nitrure de silicium Science des matériaux丨Semiconducteur丨Bioscience
Les fenêtres à couche mince en nitrure de silicium sont utilisées dans un large éventail d'applications dans les domaines de la science des matériaux, de la production et de l'analyse des semi-conducteurs et de la bioscience. Nos produits de haute qualité offrent des capacités d'imagerie à haute résolution pour une large gamme de types et de tailles d'échantillons.
Quelles sont les caractéristiques et les applications du dioxyde de vanadium préparé par pulvérisation magnétron ?
Quelles sont les caractéristiques et les applications du dioxyde de vanadium préparé par pulvérisation magnétron ? Méthode de pulvérisation magnétron
Principes et avantages du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PE-CVD)
Principes et avantages du dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PE-CVD)