Différence entre LPCVD et PECVD
Différence entre LPCVD et PECVD En opérant à des températures élevées dans un environnement à basse pression, L
Pochoirs nano-embossés - Réseaux de trous
pochoir nano-imprimé de 4" pour des applications telles que les nanofiltres, les nanocapteurs, etc. pour contrôler le transport, la séparation et la détection de substances pour des capacités d'analyse et de détection très sensibles.
Fiche technique
Fiche produit des pochoirs de nano-impression
Détails du produit
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium/quartz) | Diamètre du trou | Modèle |
| 200nm | φ 94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | H200H_D100 |
| 350 nm | φ 94 mm | 200nm/100nm | 120-170 nm | H350H_D100 |
| 450nm | φ 50 mm | 350nm/150nm | 220-260 nm | H450H_D50 |
| 500nm | φ 94 mm | 500nm/300nm | 250-300 nm | H500H_D100 |
| 600nm | φ 94 mm | 450nm/200nm | 250-300 nm | H600H_D100 |
| 750 nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250-350 nm | H750H_51x51 |
| 780nm | φ 50 mm | 450nm/200nm | 250-380 nm | H780H_D50 |
| 870nm | φ 94 mm | 550nm/250nm | 300-45 nm | H870H_D100 |
| 1000nm | φ 94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | H1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | H1500H_51x51 |
| 1700nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | H1700H_D100 |
| 2000nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | H2000H_D100 |
| 3000nm | φ 94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | H3000H_D100 |
| 3500nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 800~1600 nm | H3500H_D100 |
| 5200nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 1200~2400 nm | H5200H_D100 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium) | Diamètre du trou | Modèle |
| 200nm | 20x20 mm² | 200 nm | 100 nm | H200H_20x20 |
| 345nm | 20x20 mm² | 200 nm | 227 nm | H345H_20x20 |
| 500nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 50 nm | H500H_02x02 |
| 600nm | 20x20 mm² | 300 nm | 300 nm | H600H_25x25 |
| 750 nm | 25x25 mm² | 420 nm | 380 nm | H750H_25x25 |
| 1000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 100 nm | H1000H_02x02 |
| 1010nm | 15x15 mm² | 300 nm | 390 nm | H1010H_15x15 |
| 1010nm | 25x25 mm² | 300 nm | 490 nm | H1010H_25x25 |
| 1010nm | 25x25 mm² | 350 nm | 470 nm | H1010H_25x25 |
| 2000nm | 0,2x0,2 mm² (9x) | 110 nm | 200 nm | H2000H_02x02 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 850 nm | 1500 nm | H3000H_20x20 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1500 nm | 1200 nm | H3000H_20x20 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium/quartz) | Diamètre du trou | Modèle |
| 125nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 50-70 nm | H125S_D90 |
| 125nm | 20x20 mm² | 90nm/- | 65 nm | H125S_20x20 |
| 140nm | Φ 80mm | 150nm/100nm | 60~80 nm | H140S_D80 |
| 150 nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 60-90 nm | H150S_D90 |
| 150 nm | 5x5 mm² | 100nm/- | 65 nm | H150S_5x5 |
| 190 nm | φ 94mm | 180nm/140nm | 85~115 nm | H190S_D100 |
| 200nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 70-120 nm | H200S_D90 |
| 200nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H200S_5x5 |
| 235nm | φ 94mm | 200nm/150nm | 100 à 135 nm | H235S_D100 |
| 250nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70 nm | H250S_5x5 |
| 300nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 120-180 nm | H300S_D90 |
| 350 nm | φ 94mm | 300nm/150nm | 240 à 280 nm | H350S_D100 |
| 350 nm | 20x20 mm² | 300nm/- | 250 nm | H350S_20x20 |
| 375nm | φ 94mm | 200nm/100nm | 150 à 250 nm | H375S_D100 |
Caractéristiques et avantages :
Haute résolution : nos pochoirs de nano-impression ont d'excellentes capacités de résolution, ce qui permet de réaliser des motifs complexes à l'échelle nanométrique. Cette haute résolution en fait un outil idéal pour l'étude des phénomènes à l'échelle nanométrique et la fabrication de nanodispositifs.
Haute précision : notre processus de fabrication des pochoirs utilise une technologie de nanofabrication avancée pour garantir un degré élevé de cohérence et de précision. Cette haute précision garantit que chaque pochoir fournit des résultats fiables et reproductibles en matière de transfert de motifs.
Polyvalence : notre pochoir de nanoimpression peut être utilisé dans une grande variété d'applications. Il peut être utilisé pour la fabrication de dispositifs nanoélectroniques tels que les nanotransistors et les nanofils. Il peut également être utilisé pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques, tels que les nano-grilles et les cristaux photoniques. En outre, il a un large éventail d'applications dans le domaine biomédical, comme la fabrication de biopuces et de nanocapteurs.
Efficacité : notre procédé de fabrication de pochoirs à nanoimpression est efficace et évolutif. Il peut être produit en masse et convient aux besoins de fabrication à grande échelle. Cette efficacité élevée fait de nos produits le premier choix pour la recherche dans l'industrie et les universités.
Personnalisation : Nous pouvons fournir des pochoirs de nano-embossage personnalisés pour répondre aux besoins de nos clients. Qu'il s'agisse d'une conception graphique spécifique ou d'un matériau particulier, notre équipe peut vous proposer la meilleure solution.
Les réseaux de trous hexagonaux et les réseaux de trous rectangulaires dans les pochoirs nanoimpressionnés sont deux modèles courants de structures à trous utilisés pour réaliser un transfert et une préparation précis de motifs à l'échelle nanométrique.
Ces deux types de modèles de réseaux de trous offrent une uniformité de préparation et une reproductibilité élevées pendant la nanoimpression et sont capables de répondre aux besoins de préparation de nanostructures de précision. Ils constituent des outils et des solutions importants pour des domaines tels que la nanofabrication, la recherche sur les nanodispositifs et les applications biomédicales.
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