Différence entre LPCVD et PECVD
Différence entre LPCVD et PECVD En opérant à des températures élevées dans un environnement à basse pression, L
Pochoirs nano-imprimés - Colonnes de pochoirs
Applications à la fabrication de dispositifs photoniques, aux nanofiltres et à la spectroscopie Raman améliorée par la surface pour le contrôle de la propagation de la lumière et des interactions pour la modulation et l'amélioration des propriétés optiques.
Fiche technique
Fiche produit des pochoirs de nano-impression
Détails du produit
-
Réseaux hexagonaux
-
Réseau hexagonal II
-
Tableaux carrés
-
Réseau carré II
-
Caractéristiques et avantages
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium/quartz) | Diamètre de la colonne | Modèle |
| 200nm | φ94 mm | 120nm/100nm | 90-120 nm | P200H_D100 |
| 350 nm | φ50 mm | 350nm/150nm | 120~170 nm | P350H_D50 |
| 450nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 220~260 nm | P450H_D100 |
| 600nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 250~300 nm | P600H_D100 |
| 750 nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250~350 nm | P750H_51x51 |
| 780nm | φ50 mm | 450nm/200nm | 250~350 nm | P780H_D50 |
| 870nm | φ94 mm | 550nm/250nm | 300~400 nm | P870H_D100 |
| 1000nm | φ94 mm | 600nm/300nm | 300~500 nm | P1000H_D100 |
| 1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650 nm | P1500H_51x51 |
| 1700nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 500~800 nm | P1700H_D100 |
| 2000nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 600~1100 nm | P2000H_D100 |
| 3000nm | φ94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400 nm | P3000H_D100 |
| 3500nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~1600 nm | P3450H_D100 |
| 5200nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~2000 nm | P5200H_D100 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium) | Diamètre de la colonne | Modèle |
| 200nm | 20x20 mm² | 90 nm | 110 nm | P200H_20x20 |
| 350 nm | 20x20 mm² | 260 nm | 130 nm | P350H_20x20 |
| 400 nm | 5x5 mm² | 100 nm | 140 nm | P400H_D100 |
| 600nm | 20x20 mm² | 310 nm | 300 nm | P600H_D100 |
| 750 nm | 25x25 mm² | 260 nm | 325 nm | P750H_D100 |
| 1000nm | 20x20 mm² | 470 nm | 470 nm | P1000H_D100 |
| 1732nm | 20x20 mm² | 590 nm | 880 nm | P1732H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 5000 nm | 1400 nm | P3000H_D100 |
| 3000nm | 20x20 mm² | 1200 nm | 1800 nm | P3000H_D100 |
| 250nm | 14x14 mm² | 150 nm | 136 nm (conique) | P250H_D100 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium/quartz) | Diamètre de la colonne | Modèle |
| 125nm | φ90mm | 90nm/60nm | 50~70nm | P125S_D90 |
| 140nm | φ80mm | 75nm/ - | 50~75nm | P140S_D80 |
| 150 nm | φ90mm | 75nm/ - | 60~85nm | P150S_D90 |
| 250nm | φ94mm | 200nm/100nm | 110~130nm | P250S_D90 |
| 280nm | Φ80mm | 200nm/100nm | 120~150nm | P280S_D80 |
| 300nm | φ94mm | 200nm/100nm | 120~160nm | P300S_D100 |
| 380nm | φ94mm | 400nm/300nm | 160~220nm | P380S_D100 |
| 400 nm | φ94mm | 300nm/100nm | 150~220nm | P400S_D100 |
| 480 nm | φ94mm | 500nm/400nm | 200~270nm | P480S_D100 |
| 500nm | φ94mm | 400nm/150nm | 200~250nm | P500S_D100 |
| 560 nm | Φ80mm | 400nm/150nm | 200~280nm | P560S_D80 |
| 600nm | φ94mm | 500nm/250nm | 200~300nm | P600S_D100 |
| 760nm | φ94mm | 700nm/600nm | 330~430nm | P760S_D100 |
| 800nm | φ94mm | 500nm/300nm | 200~400nm | P800S_D100 |
| Périodicité | Surface effective | Profondeur de gravure maximale (silicium) | Diamètre de la colonne | Modèle |
| 125nm | 10x10 mm² | 95 nm | 54 nm | P125S_10x10 |
| 125nm | 20x20 mm² | 95 nm | 74 nm | P125S_20x20 |
| 150 nm | 20x20 mm² | 135 nm | 62 nm | P150S_20x20 |
| 150 nm | 5x5 mm² | 110 nm | 80 nm | P150S_5x5 |
| 250nm | 20x20 mm² | 200 nm | 115 nm | P250S_20x20 |
| 300nm | 14x14 mm² | 170 nm | 145 nm | P300S_D100 |
| 550nm | 20x20 mm² | 150nm/300nm | 300 nm | P380S_D100 |
| 800nm | 20x20 mm² | 250 nm | 440 nm | P400S_D100 |
Caractéristiques et avantages :
Haute résolution : nos pochoirs de nano-impression ont d'excellentes capacités de résolution, ce qui permet de réaliser des motifs complexes à l'échelle nanométrique. Cette haute résolution en fait un outil idéal pour l'étude des phénomènes à l'échelle nanométrique et la fabrication de nanodispositifs.
Haute précision : notre processus de fabrication des pochoirs utilise une technologie de nanofabrication avancée pour garantir un degré élevé de cohérence et de précision. Cette haute précision garantit que chaque pochoir fournit des résultats fiables et reproductibles en matière de transfert de motifs.
Polyvalence : notre pochoir de nanoimpression peut être utilisé dans une grande variété d'applications. Il peut être utilisé pour la fabrication de dispositifs nanoélectroniques tels que les nanotransistors et les nanofils. Il peut également être utilisé pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques, tels que les nano-grilles et les cristaux photoniques. En outre, il a un large éventail d'applications dans le domaine biomédical, comme la fabrication de biopuces et de nanocapteurs.
Efficacité : notre procédé de fabrication de pochoirs à nanoimpression est efficace et évolutif. Il peut être produit en masse et convient aux besoins de fabrication à grande échelle. Cette efficacité élevée fait de nos produits le premier choix pour la recherche dans l'industrie et les universités.
Personnalisation : Nous pouvons fournir des pochoirs de nano-embossage personnalisés pour répondre aux besoins de nos clients. Qu'il s'agisse d'une conception graphique spécifique ou d'un matériau particulier, notre équipe peut vous proposer la meilleure solution.
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