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Traitement micro-nano

Processus d'enduction

Qu'est-ce que le revêtement ?

Le revêtement (dépôt de couches minces) est un processus par lequel une couche mince est déposée sur la surface d'un matériau par le biais d'un procédé de revêtement, modifiant ainsi les propriétés du matériau ou augmentant sa fonctionnalité. Le procédé de revêtement est largement utilisé dans les domaines de la science des matériaux, de la fabrication de semi-conducteurs, de l'optique et de l'électronique.

Les principaux procédés de revêtement comprennent le dépôt physique en phase vapeur (PVD), le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD).

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matériau de revêtement

Matériaux métalliques :
Ti (titane), Al (aluminium), Cr (chrome), Pt (platine), Bi (bismuth), Mo (molybdène), W (tungstène), Ta (tantale), Ni (nickel), Au (or), Ag (argent), Sn (étain), In (indium), Ge (germanium) et autres.

Matériaux composés :
SiO2 (dioxyde de silicium), SiNx (nitrure de silicium), ITO (oxyde d'étain indien), Al2O3 (oxyde d'aluminium), Ta2O5 (oxyde de tantale), TiO2 (dioxyde de titane), AlN (nitrure d'aluminium), TaN (nitrure de tantale), ZnO (oxyde de zinc), HfO2 (oxyde de hafnium), ZrO2 (oxyde de zirconium), Si3N4 (nitrure de silicium), PZT ( PbZT (titanate de plomb et de zirconium), ScAlN (nitrure de scandium et d'aluminium), AuSn (étain doré), TiAl (aluminium titane), TiNi (nickel titane), TiW (tungstène titane), TiN (nitrure de titane), AuBe (béryllium doré), AuGeNi (nickel germanium doré), etc.

Technologie de revêtement

Magnétron métallique, magnétron diélectrique, évaporation par faisceau d'électrons, évaporation thermique, PECVD, LPCVD, ICPCVD, PVD, dépôt de couches atomiques ALD

 

Traitement micro-nano

Sous-traitance CVD

Le procédé CVD (Chemical Vapour Deposition) permet de déposer des films uniformes de haute qualité, adaptés aux besoins spécifiques des différentes industries et applications, de contrôler l'épaisseur et la composition des films, de s'adapter aux surfaces structurées complexes des substrats, et d'utiliser des températures élevées pour augmenter les taux de réaction et la cristallinité des films.

Traitement micro-nano

Sous-traitance PVD

Le traitement PVD (Physical Vapour Deposition) permet d'obtenir un dépôt de film uniforme et de haute qualité, répond aux exigences spécifiques de l'industrie, permet de contrôler l'épaisseur et la composition du film, convient aux surfaces de substrats présentant des structures complexes et est réalisé à des températures plus basses, ce qui réduit le risque de stress thermique sur le substrat.

Traitement micro-nano

ALD OEM

Le procédé ALD (Atomic Layer Deposition) permet de déposer des films extrêmement uniformes et denses, de répondre aux exigences spécifiques de l'industrie, de contrôler avec une très grande précision l'épaisseur et la composition des films et de s'adapter à une large gamme de substrats et de surfaces complexes, tout en fonctionnant à basse température, ce qui contribue à réduire le risque de stress thermique sur le substrat.
Processus de personnalisation

1. les besoins en matière de communication

Sur la base de vos exigences, nos ingénieurs R&D développeront la solution de traitement optimale.

2. l'offre de programmes

Devis basé sur la solution de traitement

3. la production et le contrôle de la qualité

Contrôle de la qualité et responsabilité totale de vos produits pour qu'ils répondent à nos normes de production

4. livraison dans les délais

Livrer le produit dans un délai d'une semaine dans les délais prévus

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Nous vous contacterons dans les plus brefs délais.

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