真空蒸发为什么选择电子束（EB-PVD）

物质在真空中的蒸发过程，从蒸发速率的角度分类，分为缓慢蒸发过程和快速蒸发过程两种类型，也称弱蒸发过程和强蒸发过程。蒸发速率，指在单位时间内单位面积上，蒸发出的物质的质量。物质在真空中的蒸发速率，理论上主要受蒸发表面的温度和饱和蒸汽压等自身物理性质的影响，但在实际应用中，蒸发过程需要综合考虑包括热量的传递过程、物质的扩散过程、相变过程等对蒸发产生的影响。

在真空中，想要让物质快速地蒸发，需要对物质进行加热，加热方法多种多样，包括电子束、激光束、电阻热、磁控溅射等方法，这其中应用相对较为广泛的是电子束和激光两种加热方式。这两种方法都具有能量密度高，熔化区域可控等优点。电子束相对激光束来说，其工程实现更为容易。

目前，真空蒸发最主要的应用技术包括真空蒸发镀膜技术、真空蒸发冶金技术真空蒸发制粉技术等，废弃物的真空蒸发处理属于真空蒸发冶金技术的应用。利用真空蒸发法制备各种薄膜材料和涂层已经是一种较为成熟的应用技术了。在高真空环境下，加热水冷坩埚中的物质使其蒸发，蒸发后的气态物质扩散并凝结到衬底上，从而形成一层微米级或纳米级的薄膜。这些薄膜或涂层多具有光学、电学等功能特性，其厚度多在微米或纳米级别，制备过程的蒸发速率较为缓慢，属于缓慢蒸发过程，蒸发量易于控制。

当金属被加热到一定温度时，其表面的电子获得足够的热能，能够克服金属表面的束缚力,从而脱离金属表面形成自由电子云。这些自由电子在电场和磁场的作用下,会向一定的方向运动形成电子束流。