ナノインプリントステンシル丨ウェルアレイ精密ナノ接合ソリューション

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ナノエンボス加工を施したステンシルホールアレイ

4 "ナノインプリントステンシルナノフィルター、ナノセンサーなど、物質の輸送、分離、検出を制御し、高感度な分析・検出能力を実現する用途に使用可能

データシート

ナノインプリントステンシル製品シート

製品詳細

六角形のアレイ
六角形アレイII
正方形のアレイ
特徴・メリット
商品説明

周期性	有効面積	最大エッチング深さ（シリコン/石英）	穴径	モデル
200nm	φ94 mm	120nm/100nm	90-120 nm	H200H_D100
350nm	φ94 mm	200nm/100nm	120-170 nm	H350H_D100
450nm	φ 50 mm	350nm/150nm	220-260 nm	H450H_D50
500nm	φ94 mm	500nm/300nm	250-300 nm	H500H_D100
600nm	φ94 mm	450nm/200nm	250-300 nm	H600H_D100
750nm	51x51 mm²	450nm/200nm	250-350 nm	H750H_51x51
780nm	φ 50 mm	450nm/200nm	250-380 nm	H780H_D50
870nm	φ94 mm	550nm/250nm	300-45 nm	H870H_D100
1000nm	φ94 mm	600nm/300nm	300~500 nm	H1000H_D100
1500nm	51x51 mm²	600nm/300nm	400~650 nm	H1500H_51x51
1700nm	φ94 mm	800nm/400nm	500~800 nm	H1700H_D100
2000nm	φ94 mm	800nm/400nm	600~1100 nm	H2000H_D100
3000nm	φ94 mm	1000nm/400nm	600~1400 nm	H3000H_D100
3500nm	φ94 mm	1200nm/500nm	800~1600 nm	H3500H_D100
5200nm	φ94 mm	1200nm/500nm	1200~2400 nm	H5200H_D100

周期性	有効面積	最大エッチング深さ（シリコン）	穴径	モデル
200nm	20×20 mm²	200 nm	100 nm	H200H_20x20
345nm	20×20 mm²	200 nm	227 nm	H345H_20x20
500nm	0.2x0.2 mm² (9倍)	110 nm	50 nm	H500H_02x02
600nm	20×20 mm²	300 nm	300 nm	H600H_25x25
750nm	25x25 mm²	420nm	380nm	H750H_25x25
1000nm	0.2x0.2 mm² (9倍)	110 nm	100 nm	H1000H_02x02
1010nm	15x15 mm²	300 nm	390 nm	H1010H_15x15
1010nm	25x25 mm²	300 nm	490 nm	H1010H_25x25
1010nm	25x25 mm²	350 nm	470nm	H1010H_25x25
2000nm	0.2x0.2 mm² (9倍)	110 nm	200 nm	H2000H_02x02
3000nm	20×20 mm²	850 nm	1500nm	H3000H_20x20
3000nm	20×20 mm²	1500nm	1200 nm	H3000H_20x20

周期性	有効面積	最大エッチング深さ（シリコン/石英）	穴径	モデル
125nm	φ 90mm	150nm/100nm	50-70 nm	H125S_D90
125nm	20×20 mm²	90nm/-	65 nm	H125S_20x20
140nm	Φ 80mm	150nm/100nm	60~80 nm	H140S_D80
150nm	φ 90mm	150nm/100nm	60～90 nm	H150S_D90
150nm	5x5 mm²	100nm/-	65 nm	H150S_5x5
190nm	φ94mm	180nm/140nm	85～115 nm	H190S_D100
200nm	φ 90mm	200nm/150nm	70-120 nm	H200S_D90
200nm	5x5 mm²	110nm/-	70 nm	H200S_5x5
235nm	φ94mm	200nm/150nm	100～135 nm	H235S_D100
250nm	5x5 mm²	110nm/-	70 nm	H250S_5x5
300nm	φ 90mm	200nm/150nm	120-180 nm	H300S_D90
350nm	φ94mm	300nm/150nm	240～280nm	H350S_D100
350nm	20×20 mm²	300nm/-	250 nm	H350S_20x20
375nm	φ94mm	200nm/100nm	150～250 nm	H375S_D100

特徴・メリット

高解像度：当社のナノインプリントステンシルは優れた解像度を有しており、ナノスケールでの複雑なパターンを実現することができます。この高い解像度は、ナノスケール現象の研究やナノデバイスの作製に最適です。
高精度：当社のステンシル製造工程では、高度なナノファブリケーション技術により、高度な一貫性と精度を確保しています。この高い精度により、各ステンシルは信頼性が高く、再現性の高いパターン転写結果を提供することができます。
汎用性：当社のナノインプリントステンシルは、様々な用途に使用することができます。ナノトランジスタやナノワイヤーなどのナノエレクトロニクスデバイスの製造に使用できます。また、ナノグラティングやフォトニック結晶などのオプトエレクトロニクスデバイスの作製にも使用することができます。さらに、バイオチップやナノセンサーの製造など、バイオメディカル分野でも幅広い応用が可能です。
効率的：当社のナノインプリント孔版製造プロセスは、効率的でスケーラブルです。大量生産が可能で、大規模な製造ニーズに適しています。この高い効率性により、当社の製品は、産業界や学術界の研究において、第一の選択肢となっています。
カスタマイズ：お客様のニーズに合わせて、カスタマイズされたナノエンボス用ステンシルを提供することができます。特定のグラフィックデザインであれ、特別な材料要件であれ、当社のチームはお客様に最適なソリューションを提供します。

ナノインプリントステンシルにおける六角形の穴アレイと長方形の穴アレイは、精密なナノスケールのパターン転写と作成を達成するために使用される穴のような構造の2つの共通のパターンです。

これら2種類のホールアレイテンプレートは、ナノインプリント時に高い作製均一性と再現性を実現し、精密なナノ構造作製の要求を満たすことができます。ナノファブリケーション、ナノデバイス研究、バイオメディカルアプリケーションなどの分野で重要なツールとソリューションを提供します。

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