LPCVDとPECVDの違い LPCVDは、低圧環境下で高温で作動することにより、高品質で緻密かつ均質な膜を製造することができる。

光学コーティング技術の原理と応用 光学コーティングのプロセス原理は、主に光学素子（レンズ、ミラー、プリズムなど）の表面に1つ以上の層を蒸着させることである。

白金抵抗器におけるアニール処理の影響 高精度温度測定の分野において、薄膜白金抵抗器は、その高い安定性と高精度により、従来のものに徐々に取って代わりつつある。

マグネトロンスパッタリング丨白金温度センサーの製造プロセス 現代の科学技術の分野では、温度センサーはさまざまな産業で重要な測定装置として重要な役割を果たしている。

光学用途における窒化ケイ素薄膜 窒化ケイ素薄膜は、典型的な光学薄膜材料として、光学薄膜の分野で重要な用途がある。

ALDプロセスによる窒化チタン(TiN)薄膜の作製 原子層堆積(ALD)プロセスによって作製された窒化チタン(TiN)薄膜は、高い硬度と低い温度を持つ。

窒化ケイ素薄膜作製におけるICPCVDとPECVDの違い ICPCVD（誘導結合法）

異なる波長におけるアモルファスシリコンの屈折率と吸収係数の変化 アモルファスシリコンの光学特性の研究では、屈折率(n)と吸収係数(k)は次のように表される。