電子ビーム蒸着法で作製した二酸化ケイ素膜の特性と用途は？

シリコン基板上の二酸化ケイ素膜層の優れた特性を考慮すると、シリコン基板上の二酸化ケイ素膜層構造は、通常、能動および受動光導波路デバイスの設計および作製に使用される。二酸化ケイ素膜を光導波路デバイスに使用することで、光ファイバーモード分野とのマッチングが良く、光結合損失が低く、集積化が容易であり、光導波路の集積回路設計チームの一般的な要求、すなわち、シングルモード伝送、伝送損失が低く、光結合効率が高いという要求を満たすことができる。このようなデバイスは、良好な伝導特性を有し、光増幅、発光、電気光変調および他の機能を達成することができ、広く光統合と光電統合で使用されています。

TiO2/Si02コールドミラーは、高温に耐えることができ、耐用年数が長く、拡散緑色光がなく、投影された画像に緑色のハレーションがないなど、通常の赤外線ミラーと比較して多くの利点があります。TiO2/SiO2コールドミラーは、プロジェクター、複写機、映画館の高出力投光器にすでに広く使われている。

TiO2/SiO2多層膜構造は赤外線反射膜としても使用することができ、現在では通常、自動車照明用の省エネ照明ランプのライニング層として使用されており、ランプの発光効率を効果的に向上させ、光の減衰率を低減し、寿命を延ばし、通常のランプよりも高い安全性を提供することができる。TiO2/Si02の赤外線反射特性は建築用ガラスにもよく使用されており、可視光を透過し、赤外線を反射することができるため、赤外線による熱損傷を最小限に抑えることができる、TiO2/Si02の赤外線反射特性は、建築用ガラスにもよく使用されている。

抗レーザー損傷膜の研究の分野では、Si02/TiO2複合膜システム、高屈折率膜のAR膜の第一層と基板の間にまずλ/2厚の内側保護層の層を堆積させ、1.06μmになります、0.15 nmのレーザー平均損傷値は301 TP3Tによって増加させることができる。