저압 환경에서 고온으로 작동하여 고품질의 조밀하고 균일한 필름을 생산할 수 있는 LPCVD와 PECVD의 차이점.

광학 코팅 기술의 원리 및 응용 광학 코팅의 공정 원리는 주로 광학 요소(예: 렌즈, 거울, 프리즘 등)의 표면에 하나 이상의 층을 증착하는 것입니다.

어닐링 공정이 백금 저항기에 미치는 영향 고정밀 온도 측정 분야에서 박막 백금 저항기는 높은 안정성과 높은 정확도로 인해 기존 저항기를 점차 대체하고 있습니다.

백금 온도 센서를 만드는 마그네트론 스퍼터링 丨 공정 현대 과학 기술 분야에서 온도 센서는 다양한 산업에서 핵심 측정 장치로서 중요한 역할을합니다.

광학 응용 분야의 실리콘 질화물 박막 실리콘 질화물 박막은 대표적인 광학 박막 재료로서 광학 박막 분야에서 중요한 응용 분야를 가지고 있습니다.

ALD 공정에 의한 질화 티타늄(TiN) 박막의 제조 원자층 증착(ALD) 공정으로 제조된 질화 티타늄(TiN) 박막은 경도가 높고 온도가 낮습니다.

질화규소 박막 제조를 위한 ICPCVD와 PECVD의 차이점 ICPCVD(유도 결합)

파장에 따른 비정질 실리콘의 굴절률 및 흡수 계수의 변화 비정질 실리콘의 광학적 특성 연구에서 굴절률(n)과 흡수 계수(k)는 다음과 같습니다.