LPCVD와 PECVD의 차이점
저압 환경에서 고온으로 작동함으로써 LPCVD와 PECVD의 차이점 L
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주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠) | 기둥 지름 | 모델 |
200nm | φ94 mm | 120nm/100nm | 90-120nm | P200H_D100 |
350nm | φ50 mm | 350nm/150nm | 120~170nm | P350H_D50 |
450nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 220~260nm | P450H_D100 |
600nm | φ94 mm | 450nm/200nm | 250~300nm | P600H_D100 |
750nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250~350nm | P750H_51x51 |
780nm | φ50 mm | 450nm/200nm | 250~350nm | P780H_D50 |
870nm | φ94 mm | 550nm/250nm | 300~400nm | P870H_D100 |
1000nm | φ94 mm | 600nm/300nm | 300~500nm | P1000H_D100 |
1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650nm | P1500H_51x51 |
1700nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 500~800nm | P1700H_D100 |
2000nm | φ94 mm | 800nm/400nm | 600~1100nm | P2000H_D100 |
3000nm | φ94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400nm | P3000H_D100 |
3500nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~1600nm | P3450H_D100 |
5200nm | φ94 mm | 1200nm/500nm | 600~2000nm | P5200H_D100 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘) | 기둥 지름 | 모델 |
200nm | 20x20 mm² | 90nm | 110nm | P200H_20x20 |
350nm | 20x20 mm² | 260nm | 130nm | P350H_20x20 |
400nm | 5x5 mm² | 100nm | 140nm | P400H_D100 |
600nm | 20x20 mm² | 310nm | 300nm | P600H_D100 |
750nm | 25x25 mm² | 260nm | 325nm | P750H_D100 |
1000nm | 20x20 mm² | 470nm | 470nm | P1000H_D100 |
1732nm | 20x20 mm² | 590nm | 880nm | P1732H_D100 |
3000nm | 20x20 mm² | 5000nm | 1400nm | P3000H_D100 |
3000nm | 20x20 mm² | 1200nm | 1800nm | P3000H_D100 |
250nm | 14x14 mm² | 150nm | 136nm(원뿔형) | P250H_D100 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠) | 기둥 지름 | 모델 |
125nm | φ90mm | 90nm/60nm | 50~70nm | P125S_D90 |
140nm | φ80mm | 75nm/ - | 50~75nm | P140S_D80 |
150nm | φ90mm | 75nm/ - | 60~85nm | P150S_D90 |
250nm | φ94mm | 200nm/100nm | 110~130nm | P250S_D90 |
280nm | Φ80mm | 200nm/100nm | 120~150nm | P280S_D80 |
300nm | φ94mm | 200nm/100nm | 120~160nm | P300S_D100 |
380nm | φ94mm | 400nm/300nm | 160~220nm | P380S_D100 |
400nm | φ94mm | 300nm/100nm | 150~220nm | P400S_D100 |
480nm | φ94mm | 500nm/400nm | 200~270nm | P480S_D100 |
500nm | φ94mm | 400nm/150nm | 200~250nm | P500S_D100 |
560nm | Φ80mm | 400nm/150nm | 200~280nm | P560S_D80 |
600nm | φ94mm | 500nm/250nm | 200~300nm | P600S_D100 |
760nm | φ94mm | 700nm/600nm | 330~430nm | P760S_D100 |
800nm | φ94mm | 500nm/300nm | 200~400nm | P800S_D100 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘) | 기둥 지름 | 모델 |
125nm | 10x10 mm² | 95nm | 54nm | P125S_10x10 |
125nm | 20x20 mm² | 95nm | 74nm | P125S_20x20 |
150nm | 20x20 mm² | 135nm | 62nm | P150S_20x20 |
150nm | 5x5 mm² | 110nm | 80nm | P150S_5x5 |
250nm | 20x20 mm² | 200nm | 115nm | P250S_20x20 |
300nm | 14x14 mm² | 170nm | 145nm | P300S_D100 |
550nm | 20x20 mm² | 150nm/300nm | 300nm | P380S_D100 |
800nm | 20x20 mm² | 250nm | 440nm | P400S_D100 |
기능 및 이점:
고해상도: 당사의 나노 임프린트 스텐실은 뛰어난 해상도 기능을 갖추고 있어 나노 스케일에서 복잡한 패턴을 구현할 수 있습니다. 이러한 높은 해상도는 나노 스케일 현상 연구 및 나노 디바이스 제작에 이상적입니다.
높은 정밀도: 당사의 스텐실 제조 공정은 첨단 나노 제조 기술을 사용하여 높은 수준의 일관성과 정밀도를 보장합니다. 이러한 높은 정밀도는 각 스텐실이 안정적이고 반복 가능한 패턴 전송 결과를 제공하도록 보장합니다.
다용도성: 나노 임프린팅 스텐실은 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 나노 트랜지스터 및 나노 와이어와 같은 나노 전자 소자 제작에 사용할 수 있습니다. 또한 나노 격자 및 포토닉 크리스탈과 같은 광전자 소자의 제작에도 사용할 수 있습니다. 또한 바이오칩 및 나노센서 제조와 같은 바이오 의료 분야에서도 광범위하게 응용되고 있습니다.
효율성: 당사의 나노 임프린트 스텐실 제조 공정은 효율적이고 확장성이 뛰어납니다. 대량 생산이 가능하며 대규모 제조 요구에 적합합니다. 이러한 높은 효율성 덕분에 당사의 제품은 산업 및 학계에서 연구용으로 가장 먼저 선택됩니다.
맞춤형: 고객의 요구에 맞는 맞춤형 나노 엠보싱 스텐실을 제공할 수 있습니다. 특정 그래픽 디자인이든 특수 소재 요구 사항이든, 당사 팀은 고객에게 가장 적합한 솔루션을 맞춤화할 수 있습니다.
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어닐링 공정이 백금 저항기에 미치는 영향 고정밀 온도 측정 분야에서 박막형 백금 저항기는 다음과 같은 이유로 사용됩니다.
마그네트론 스퍼터링 丨 백금 온도 센서를 만드는 과정 현대 기술에서 온도 센서는 다음과 같습니다.