하버 반도체

나노 임프린트 스텐실 - 기둥 배열
광학적 특성의 변조 및 향상을 위한 빛의 전파 및 상호 작용 제어를 위한 포토닉스 소자 제작, 나노 필터 및 표면 강화 라만 분광학 분야의 응용 분야
데이터 시트
나노임프린팅 스텐실 제품 시트

제품 세부 정보

주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠)기둥 지름모델
200nmφ94 mm120nm/100nm90-120nmP200H_D100
350nmφ50 mm350nm/150nm120~170nmP350H_D50
450nmφ94 mm450nm/200nm220~260nmP450H_D100
600nmφ94 mm 450nm/200nm250~300nmP600H_D100
750nm51x51 mm²450nm/200nm250~350nmP750H_51x51
780nmφ50 mm450nm/200nm250~350nmP780H_D50
870nmφ94 mm550nm/250nm300~400nmP870H_D100
1000nmφ94 mm600nm/300nm300~500nmP1000H_D100
1500nm51x51 mm²600nm/300nm400~650nmP1500H_51x51
1700nmφ94 mm800nm/400nm500~800nmP1700H_D100
2000nmφ94 mm800nm/400nm600~1100nmP2000H_D100
3000nmφ94 mm1000nm/400nm600~1400nmP3000H_D100
3500nmφ94 mm1200nm/500nm600~1600nmP3450H_D100
5200nmφ94 mm1200nm/500nm600~2000nmP5200H_D100
주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘)기둥 지름모델
200nm20x20 mm²90nm110nmP200H_20x20
350nm20x20 mm²260nm130nmP350H_20x20
400nm5x5 mm²100nm140nmP400H_D100
600nm20x20 mm²310nm300nmP600H_D100
750nm25x25 mm²260nm325nmP750H_D100
1000nm20x20 mm²470nm470nmP1000H_D100
1732nm20x20 mm²590nm880nmP1732H_D100
3000nm20x20 mm²5000nm1400nmP3000H_D100
3000nm20x20 mm²1200nm1800nmP3000H_D100
250nm14x14 mm²150nm136nm(원뿔형)P250H_D100
주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠)기둥 지름모델
125nmφ90mm90nm/60nm50~70nmP125S_D90
140nmφ80mm75nm/ -50~75nmP140S_D80
150nmφ90mm75nm/ -60~85nmP150S_D90
250nmφ94mm200nm/100nm110~130nmP250S_D90
280nmΦ80mm200nm/100nm120~150nmP280S_D80
300nmφ94mm200nm/100nm120~160nmP300S_D100
380nmφ94mm400nm/300nm160~220nmP380S_D100
400nmφ94mm300nm/100nm150~220nmP400S_D100
480nmφ94mm500nm/400nm200~270nmP480S_D100
500nmφ94mm400nm/150nm200~250nmP500S_D100
560nmΦ80mm400nm/150nm200~280nmP560S_D80
600nmφ94mm500nm/250nm200~300nmP600S_D100
760nmφ94mm700nm/600nm330~430nmP760S_D100
800nmφ94mm500nm/300nm200~400nmP800S_D100
주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘)기둥 지름모델
125nm10x10 mm²95nm54nmP125S_10x10
125nm20x20 mm²95nm74nmP125S_20x20
150nm20x20 mm²135nm62nmP150S_20x20
150nm5x5 mm²110nm80nmP150S_5x5
250nm20x20 mm²200nm115nmP250S_20x20
300nm14x14 mm²170nm145nmP300S_D100
550nm20x20 mm²150nm/300nm300nmP380S_D100
800nm20x20 mm²250nm440nmP400S_D100

기능 및 이점:

  1. 고해상도: 당사의 나노 임프린트 스텐실은 뛰어난 해상도 기능을 갖추고 있어 나노 스케일에서 복잡한 패턴을 구현할 수 있습니다. 이러한 높은 해상도는 나노 스케일 현상 연구 및 나노 디바이스 제작에 이상적입니다.

  2. 높은 정밀도: 당사의 스텐실 제조 공정은 첨단 나노 제조 기술을 사용하여 높은 수준의 일관성과 정밀도를 보장합니다. 이러한 높은 정밀도는 각 스텐실이 안정적이고 반복 가능한 패턴 전송 결과를 제공하도록 보장합니다.

  3. 다용도성: 나노 임프린팅 스텐실은 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 나노 트랜지스터 및 나노 와이어와 같은 나노 전자 소자 제작에 사용할 수 있습니다. 또한 나노 격자 및 포토닉 크리스탈과 같은 광전자 소자의 제작에도 사용할 수 있습니다. 또한 바이오칩 및 나노센서 제조와 같은 바이오 의료 분야에서도 광범위하게 응용되고 있습니다.

  4. 효율성: 당사의 나노 임프린트 스텐실 제조 공정은 효율적이고 확장성이 뛰어납니다. 대량 생산이 가능하며 대규모 제조 요구에 적합합니다. 이러한 높은 효율성 덕분에 당사의 제품은 산업 및 학계에서 연구용으로 가장 먼저 선택됩니다.

  5. 맞춤형: 고객의 요구에 맞는 맞춤형 나노 엠보싱 스텐실을 제공할 수 있습니다. 특정 그래픽 디자인이든 특수 소재 요구 사항이든, 당사 팀은 고객에게 가장 적합한 솔루션을 맞춤화할 수 있습니다.

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