LPCVD와 PECVD의 차이점
저압 환경에서 고온으로 작동함으로써 LPCVD와 PECVD의 차이점 L
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주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠) | 구멍 직경 | 모델 |
200nm | φ 94 mm | 120nm/100nm | 90-120nm | H200H_D100 |
350nm | φ 94 mm | 200nm/100nm | 120-170nm | H350H_D100 |
450nm | φ 50 mm | 350nm/150nm | 220-260nm | H450H_D50 |
500nm | φ 94 mm | 500nm/300nm | 250-300nm | H500H_D100 |
600nm | φ 94 mm | 450nm/200nm | 250-300nm | H600H_D100 |
750nm | 51x51 mm² | 450nm/200nm | 250-350nm | H750H_51x51 |
780nm | φ 50 mm | 450nm/200nm | 250-380nm | H780H_D50 |
870nm | φ 94 mm | 550nm/250nm | 300-45nm | H870H_D100 |
1000nm | φ 94 mm | 600nm/300nm | 300~500nm | H1000H_D100 |
1500nm | 51x51 mm² | 600nm/300nm | 400~650nm | H1500H_51x51 |
1700nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 500~800nm | H1700H_D100 |
2000nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 600~1100nm | H2000H_D100 |
3000nm | φ 94 mm | 1000nm/400nm | 600~1400nm | H3000H_D100 |
3500nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 800~1600nm | H3500H_D100 |
5200nm | φ 94 mm | 1200nm/500nm | 1200~2400nm | H5200H_D100 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘) | 구멍 직경 | 모델 |
200nm | 20x20 mm² | 200nm | 100nm | H200H_20x20 |
345nm | 20x20 mm² | 200nm | 227nm | H345H_20x20 |
500nm | 0.2x0.2mm²(9x) | 110nm | 50nm | H500H_02x02 |
600nm | 20x20 mm² | 300nm | 300nm | H600H_25x25 |
750nm | 25x25 mm² | 420nm | 380nm | H750H_25x25 |
1000nm | 0.2x0.2mm²(9x) | 110nm | 100nm | H1000H_02x02 |
1010nm | 15x15 mm² | 300nm | 390nm | H1010H_15x15 |
1010nm | 25x25 mm² | 300nm | 490nm | H1010H_25x25 |
1010nm | 25x25 mm² | 350nm | 470nm | H1010H_25x25 |
2000nm | 0.2x0.2mm²(9x) | 110nm | 200nm | H2000H_02x02 |
3000nm | 20x20 mm² | 850nm | 1500nm | H3000H_20x20 |
3000nm | 20x20 mm² | 1500nm | 1200nm | H3000H_20x20 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠) | 구멍 직경 | 모델 |
125nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 50-70nm | H125S_D90 |
125nm | 20x20 mm² | 90nm/- | 65nm | H125S_20x20 |
140nm | Φ 80mm | 150nm/100nm | 60~80nm | H140S_D80 |
150nm | φ 90mm | 150nm/100nm | 60-90nm | H150S_D90 |
150nm | 5x5 mm² | 100nm/- | 65nm | H150S_5x5 |
190nm | φ 94mm | 180nm/140nm | 85~115nm | H190S_D100 |
200nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 70-120nm | H200S_D90 |
200nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70nm | H200S_5x5 |
235nm | φ 94mm | 200nm/150nm | 100~135nm | H235S_D100 |
250nm | 5x5 mm² | 110nm/- | 70nm | H250S_5x5 |
300nm | φ 90mm | 200nm/150nm | 120-180nm | H300S_D90 |
350nm | φ 94mm | 300nm/150nm | 240~280nm | H350S_D100 |
350nm | 20x20 mm² | 300nm/- | 250nm | H350S_20x20 |
375nm | φ 94mm | 200nm/100nm | 150~250nm | H375S_D100 |
기능 및 이점:
고해상도: 당사의 나노 임프린트 스텐실은 뛰어난 해상도 기능을 갖추고 있어 나노 스케일에서 복잡한 패턴을 구현할 수 있습니다. 이러한 높은 해상도는 나노 스케일 현상 연구 및 나노 디바이스 제작에 이상적입니다.
높은 정밀도: 당사의 스텐실 제조 공정은 첨단 나노 제조 기술을 사용하여 높은 수준의 일관성과 정밀도를 보장합니다. 이러한 높은 정밀도는 각 스텐실이 안정적이고 반복 가능한 패턴 전송 결과를 제공하도록 보장합니다.
다용도성: 나노 임프린팅 스텐실은 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 나노 트랜지스터 및 나노 와이어와 같은 나노 전자 소자 제작에 사용할 수 있습니다. 또한 나노 격자 및 포토닉 크리스탈과 같은 광전자 소자의 제작에도 사용할 수 있습니다. 또한 바이오칩 및 나노센서 제조와 같은 바이오 의료 분야에서도 광범위하게 응용되고 있습니다.
효율성: 당사의 나노 임프린트 스텐실 제조 공정은 효율적이고 확장성이 뛰어납니다. 대량 생산이 가능하며 대규모 제조 요구에 적합합니다. 이러한 높은 효율성 덕분에 당사의 제품은 산업 및 학계에서 연구용으로 가장 먼저 선택됩니다.
맞춤형: 고객의 요구에 맞는 맞춤형 나노 엠보싱 스텐실을 제공할 수 있습니다. 특정 그래픽 디자인이든 특수 소재 요구 사항이든, 당사 팀은 고객에게 가장 적합한 솔루션을 맞춤화할 수 있습니다.
나노 임프린트 스텐실의 육각형 구멍 배열과 직사각형 구멍 배열은 정밀한 나노 스케일 패턴 전송 및 준비를 달성하는 데 사용되는 구멍과 같은 구조의 두 가지 일반적인 패턴입니다.
이 두 가지 유형의 홀 어레이 템플릿은 나노 임프린팅 시 높은 준비 균일성과 재현성을 제공하며 정밀 나노 구조 준비의 요구 사항을 충족할 수 있습니다. 나노 제조, 나노 디바이스 연구 및 생의학 응용 분야와 같은 분야에 중요한 도구와 솔루션을 제공합니다.
저압 환경에서 고온으로 작동함으로써 LPCVD와 PECVD의 차이점 L
광학 코팅 기술의 원리 및 응용 광학 코팅의 공정 원리는 주로 광학 요소에 관여합니다.
어닐링 공정이 백금 저항기에 미치는 영향 고정밀 온도 측정 분야에서 박막형 백금 저항기는 다음과 같은 이유로 사용됩니다.
마그네트론 스퍼터링 丨 백금 온도 센서를 만드는 과정 현대 기술에서 온도 센서는 다음과 같습니다.