PVD(물리적 기상 증착) 기술의 기원은 19세기 말과 20세기 초에 이루어진 일련의 실험과 연구로 거슬러 올라갑니다. 이 기술의 발전은 주로 고체 표면 과학, 진공 기술 및 재료 공학의 발전과 밀접하게 연관되어 있습니다.
고체 표면 과학과 진공 기술이 더욱 발전함에 따라 PVD 기술은 점차 중요한 박막 증착 방법이 되었습니다. 사람들은 스퍼터링, 증착 및 레이저 기술을 사용하여 필름 구성, 두께 및 구조를 정밀하게 제어하기 시작했습니다. PVD 기술은 마이크로 전자, 광학, 표면 코팅 및 기타 분야에서 널리 사용되어 왔으며 진화하는 산업 요구를 충족하기 위해 지속적으로 개선되고 최적화되었습니다.