광학 응용 분야를 위한 실리콘 질화물 박막

2024-06-04

대표적인 광학 박막 소재인 실리콘 질화물 필름은 광학 박막 분야에서 중요한 응용 가치를 지니고 있습니다. 우수한 광학적 특성과 화학적 안정성으로 인해 광학 부품에 널리 사용됩니다. 실리콘 질화물 필름은 높은 투과율과 높은 반사 방지 특성을 가질뿐만 아니라 높은 경도와 내마모성을 가지고있어 실리콘 질화물 필름으로 코팅 된 광학 장치 표면이 장치의 광학 성능과 수명을 효과적으로 향상시킬 수 있습니다. 따라서 광학 분야에서 실리콘 질화물 필름의 적용은 광학 장치의 성능 향상과 응용 분야 확장에 중요한 지원을 제공합니다.

실리콘 질화물(SiNx) 필름 애플리케이션

반사 방지 코팅(AR 코팅)

기능: 광학 렌즈, 카메라 렌즈, 안경, 모니터 등의 표면에 사용하여 반사를 줄이고 빛 투과율을 개선합니다.
작동 원리: 적절한 두께와 굴절률을 선택하여 반사를 줄이고 빛 투과율을 높입니다.
장점: 굴절률이 높고 광학 투명도가 우수하여 반사를 효과적으로 줄입니다.

반사판 코팅

역할: 레이저 거울 및 기타 광학 반사 장치에서 반사 효율을 높이기 위해 사용됩니다.
작동 원리: 반사 스펙트럼 특성을 최적화하기 위해 다른 재료와 번갈아 쌓아 브래그 미러를 형성합니다.
장점: 고성능 광학 시스템을 위한 높은 반사율과 광대역 반사 특성.

보호 코팅

역할: 레이저 창, 광학 센서, 현미경 렌즈 등에 사용되어 광학 부품의 표면을 환경 침식 및 기계적 손상으로부터 보호합니다.
작동 원리: 질화규소 필름은 화학적 안정성과 기계적 강도가 우수하여 광학 부품의 표면을 효과적으로 보호할 수 있습니다.
장점: 광학 부품의 수명을 늘리고 광학 성능을 안정적으로 유지할 수 있습니다.

도파관

기능: 광 집적 회로 및 포토닉스 디바이스에서 광 신호를 전도하는 도파관 층으로 사용됩니다.
작동 원리: 실리콘 질화물 필름이 고굴절률 도파관 층으로 작용하여 빛을 효율적으로 전도하고 빛 손실을 줄입니다.
장점: 고밀도 광학 통합에 적합한 저손실, 고굴절률 도파관 소재를 제공합니다.

간섭 필터

역할: 분광기, 필터, 센서 등에 사용되며 특정 파장의 빛을 선택적으로 전송합니다.
작동 원리: 질화규소 필름 및 기타 재료의 두께와 굴절률을 정밀하게 제어하여 다층 간섭 구조를 형성하여 특정 파장의 선택적 투과 또는 반사를 달성합니다.
장점: 높은 선택도와 높은 투과율로 광학 필터링 성능을 제공합니다.

광 변조기

기능: 광통신 시스템에서 변조기로 사용되어 광 신호를 변조하여 데이터 전송을 달성합니다.
작동 원리: 실리콘 질화물 필름은 변조기의 활성층으로 사용되어 전기 광학 또는 열 광학 효과를 통해 광 신호를 변조합니다.
장점: 빠른 응답과 높은 변조 효율로 고속 광통신 애플리케이션에 적합합니다.

ICPCVD(유도 결합 플라즈마 화학 기상 증착) 및플라즈마 증착 화학 기상 증착(PECVD)실리콘 질화물 필름의 제조에는 명백한 장점이 있으며, 두 가지 cvd 방법은 더 높은 증착 속도, 더 낮은 증착 온도, 더 나은 필름 균일 성 및 필름 품질을 달성 할 수 있으며 동시에 필름 구조 및 특성을 정밀하게 제어하여 넓은 영역에 균일 한 증착에 적합하며 공정 안정성 및 재현성의 특성을 가질 수 있습니다.

ICPCVD와 PECVD는 각각 고유한 장점과 적용 분야가 있으며, 어떤 방법을 사용할지 선택하는 것은 주로 특정 애플리케이션 요구 사항과 공정 요건에 따라 달라집니다.자세히 알아보기

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