LPCVD와 PECVD의 차이점
저압 환경에서 고온으로 작동함으로써 LPCVD와 PECVD의 차이점 L
홈 " 카탈로그 " 나노 엠보싱 스텐실 " 나노 임프린트 스텐실 丨 와이어 그리드 어레이 그리드 나노 스텐실 - 하버 세미컨덕터
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠) | 선 너비 | 모델 |
125nm | φ 80 mm | 100nm/80nm | 50~80nm | L125_D80 |
140nm | φ 80 mm | 100nm/80nm | 50~85nm | L140_D80 |
150nm | φ 90 mm | 75nm/80nm | 60~100nm | L150_D90 |
200nm | φ 90 mm | 150nm/120nm | 60-120nm | L200_D90 |
250nm | φ 94 mm | 200nm/100nm | 90~130nm | L250_D100 |
280nm | φ 80 mm | 200nm/100nm | 100~150nm | L280_D80 |
300nm | φ 94 mm | 300nm/100nm | 100-160nm | L300_D100 |
380nm | φ 94 mm | 400nm/300nm | 200-270nm | L380_D100 |
400nm | φ 94 mm | 300nm/150nm | 100~200nm | L400_D100 |
470nm | φ 94 mm | 500nm/400nm | 200-270nm | L470_D100 |
500nm | φ 94 mm | 400nm/200nm | 150~250nm | L500_D100 |
560nm | φ 80 mm | 400nm/200nm | 150~280nm | L560_D80 |
600nm | φ 94 mm | 500nm/250nm | 150~300nm | L600_D100 |
760nm | φ 94 mm | 700nm/600nm | 320~430nm | L760_D100 |
800nm | φ 94 mm | 600nm/300nm | 200-400nm | L800_D100 |
1000nm | φ 94 mm | 800nm/400nm | 200-500nm | L1000_D100 |
1300nm | 75x55 mm² | 1000nm/500nm | 300~650nm | L1300_75x55 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이(실리콘) | 선 너비 | 모델 |
125nm | 18x18 mm² | 120nm | 60nm | L125_18x18 |
150nm | 15x15 mm² | 150nm | 75nm | L150_15x15 |
200nm | 20x20 mm² | 60nm/90nm | 100nm | L200_20x20 |
300nm | 30x30 mm² | 170nm | 170nm | L300_30x30 |
375nm | 20x20 mm² | 264nm | 240nm | L375_20x20 |
550nm | 20x20 mm² | 300nm | 288nm | L550_20x20 |
600nm | 20x20 mm² | 100nm | 400nm | L600_20x20 |
800nm | 20x20 mm² | 380nm | 400nm | L800_20x20 |
1300nm | φ 50 mm | 480nm | 750nm | L1300_D50 |
4000nm | 32x32 mm² | 2000nm/2300nm | 2000nm | L4000_32x32 |
4800nm | 25x25 mm² | 2600nm/3200nm | 2200nm | L4800_25x25 |
주기성 | 유효 영역 | 최대 에칭 깊이 | 선 너비 | 모델 |
10μm | 20x20 mm² | 5μm(실리콘) | 400nm | VL10_20x20 |
80 μm | φ 100 mm | 7.5μm(Ni) | 4 μm | VL80_D100 |
기능 및 이점:
고해상도: 당사의 나노 임프린트 스텐실은 뛰어난 해상도 기능을 갖추고 있어 나노 스케일에서 복잡한 패턴을 구현할 수 있습니다. 이러한 높은 해상도는 나노 스케일 현상 연구 및 나노 디바이스 제작에 이상적입니다.
높은 정밀도: 당사의 스텐실 제조 공정은 첨단 나노 제조 기술을 사용하여 높은 수준의 일관성과 정밀도를 보장합니다. 이러한 높은 정밀도는 각 스텐실이 안정적이고 반복 가능한 패턴 전송 결과를 제공하도록 보장합니다.
다용도성: 나노 임프린팅 스텐실은 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 나노 트랜지스터 및 나노 와이어와 같은 나노 전자 소자 제작에 사용할 수 있습니다. 또한 나노 격자 및 포토닉 크리스탈과 같은 광전자 소자의 제작에도 사용할 수 있습니다. 또한 바이오칩 및 나노센서 제조와 같은 바이오 의료 분야에서도 광범위하게 응용되고 있습니다.
효율성: 당사의 나노 임프린트 스텐실 제조 공정은 효율적이고 확장성이 뛰어납니다. 대량 생산이 가능하며 대규모 제조 요구에 적합합니다. 이러한 높은 효율성 덕분에 당사의 제품은 산업 및 학계에서 연구용으로 가장 먼저 선택됩니다.
맞춤형: 고객의 요구에 맞는 맞춤형 나노 엠보싱 스텐실을 제공할 수 있습니다. 특정 그래픽 디자인이든 특수 소재 요구 사항이든, 당사 팀은 고객에게 가장 적합한 솔루션을 맞춤화할 수 있습니다.
나노임프린팅 템플릿(와이어 그리드 어레이)은 나노임프린팅 기술에 사용되는 핵심 부품입니다. 대상 소재의 표면에 고해상도 패턴을 전사하기 위해 나노 크기의 와이어 그리드 패턴으로 구성된 템플릿입니다.
나노 임프린트 스텐실(와이어 그리드 어레이)의 가장 큰 특징은 와이어 그리드 구조입니다. 와이어 그리드는 길고 얇은 스트립이 병렬로 배열된 패턴입니다. 이러한 그리드의 간격과 크기는 일반적으로 수십 나노미터에서 수백 나노미터 사이의 나노 스케일에서 정밀하게 제어할 수 있습니다. 그리드의 모양과 배열은 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞게 설계하고 맞춤화할 수 있습니다.
제품 정확도:
높이/깊이: ± 15% 라인 폭: ± 10%
직경: ± 10% 결함 영역: < 1%
저압 환경에서 고온으로 작동함으로써 LPCVD와 PECVD의 차이점 L
광학 코팅 기술의 원리 및 응용 광학 코팅의 공정 원리는 주로 광학 요소에 관여합니다.
어닐링 공정이 백금 저항기에 미치는 영향 고정밀 온도 측정 분야에서 박막형 백금 저항기는 다음과 같은 이유로 사용됩니다.
마그네트론 스퍼터링 丨 백금 온도 센서를 만드는 과정 현대 기술에서 온도 센서는 다음과 같습니다.