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나노 엠보싱 스텐실 - 와이어 그리드 어레이
나노 스케일에서 고해상도 패턴 전송을 위한 4인치 나노 임프린트 스텐실입니다. 나노전자, 광전자, 생의학 및 포토닉스 애플리케이션에 널리 사용됩니다.
데이터 시트
나노임프린팅 스텐실 제품 시트

제품 세부 정보

주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘/쿼츠)선 너비모델
125nmφ 80 mm 100nm/80nm50~80nmL125_D80
140nmφ 80 mm 100nm/80nm50~85nmL140_D80
150nmφ 90 mm75nm/80nm60~100nmL150_D90
200nmφ 90 mm150nm/120nm60-120nmL200_D90
250nmφ 94 mm200nm/100nm90~130nmL250_D100
280nmφ 80 mm 200nm/100nm100~150nmL280_D80
300nmφ 94 mm300nm/100nm100-160nmL300_D100
380nmφ 94 mm400nm/300nm200-270nmL380_D100
400nmφ 94 mm300nm/150nm100~200nmL400_D100
470nmφ 94 mm500nm/400nm200-270nmL470_D100
500nmφ 94 mm400nm/200nm150~250nmL500_D100
560nmφ 80 mm 400nm/200nm150~280nmL560_D80
600nmφ 94 mm500nm/250nm150~300nmL600_D100
760nmφ 94 mm700nm/600nm320~430nmL760_D100
800nmφ 94 mm600nm/300nm200-400nmL800_D100
1000nmφ 94 mm800nm/400nm200-500nmL1000_D100
1300nm75x55 mm²1000nm/500nm300~650nmL1300_75x55
주기성유효 영역최대 에칭 깊이(실리콘)선 너비모델
125nm18x18 mm²120nm60nmL125_18x18
150nm15x15 mm²150nm75nmL150_15x15
200nm20x20 mm²60nm/90nm100nmL200_20x20
300nm30x30 mm²170nm170nmL300_30x30
375nm20x20 mm²264nm240nmL375_20x20
550nm20x20 mm²300nm288nmL550_20x20
600nm20x20 mm²100nm400nmL600_20x20
800nm20x20 mm²380nm400nmL800_20x20
1300nmφ 50 mm480nm750nmL1300_D50
4000nm32x32 mm²2000nm/2300nm2000nmL4000_32x32
4800nm25x25 mm²2600nm/3200nm2200nmL4800_25x25
주기성유효 영역최대 에칭 깊이선 너비모델
10μm20x20 mm²5μm(실리콘)400nmVL10_20x20
80 μmφ 100 mm7.5μm(Ni)4 μmVL80_D100

기능 및 이점:

  1. 고해상도: 당사의 나노 임프린트 스텐실은 뛰어난 해상도 기능을 갖추고 있어 나노 스케일에서 복잡한 패턴을 구현할 수 있습니다. 이러한 높은 해상도는 나노 스케일 현상 연구 및 나노 디바이스 제작에 이상적입니다.

  2. 높은 정밀도: 당사의 스텐실 제조 공정은 첨단 나노 제조 기술을 사용하여 높은 수준의 일관성과 정밀도를 보장합니다. 이러한 높은 정밀도는 각 스텐실이 안정적이고 반복 가능한 패턴 전송 결과를 제공하도록 보장합니다.

  3. 다용도성: 나노 임프린팅 스텐실은 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다. 나노 트랜지스터 및 나노 와이어와 같은 나노 전자 소자 제작에 사용할 수 있습니다. 또한 나노 격자 및 포토닉 크리스탈과 같은 광전자 소자의 제작에도 사용할 수 있습니다. 또한 바이오칩 및 나노센서 제조와 같은 바이오 의료 분야에서도 광범위하게 응용되고 있습니다.

  4. 효율성: 당사의 나노 임프린트 스텐실 제조 공정은 효율적이고 확장성이 뛰어납니다. 대량 생산이 가능하며 대규모 제조 요구에 적합합니다. 이러한 높은 효율성 덕분에 당사의 제품은 산업 및 학계에서 연구용으로 가장 먼저 선택됩니다.

  5. 맞춤형: 고객의 요구에 맞는 맞춤형 나노 엠보싱 스텐실을 제공할 수 있습니다. 특정 그래픽 디자인이든 특수 소재 요구 사항이든, 당사 팀은 고객에게 가장 적합한 솔루션을 맞춤화할 수 있습니다.

나노임프린팅 템플릿(와이어 그리드 어레이)은 나노임프린팅 기술에 사용되는 핵심 부품입니다. 대상 소재의 표면에 고해상도 패턴을 전사하기 위해 나노 크기의 와이어 그리드 패턴으로 구성된 템플릿입니다.

나노 임프린트 스텐실(와이어 그리드 어레이)의 가장 큰 특징은 와이어 그리드 구조입니다. 와이어 그리드는 길고 얇은 스트립이 병렬로 배열된 패턴입니다. 이러한 그리드의 간격과 크기는 일반적으로 수십 나노미터에서 수백 나노미터 사이의 나노 스케일에서 정밀하게 제어할 수 있습니다. 그리드의 모양과 배열은 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞게 설계하고 맞춤화할 수 있습니다.

제품 정확도:

높이/깊이: ± 15% 라인 폭: ± 10%

직경: ± 10% 결함 영역: < 1%

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