镀膜加工
物理气相沉积（PVD）
什么是PVD？
PVD（物理气相沉积）技术的起源可以追溯到19世纪末和20世纪初的一系列实验和研究。其发展历程主要与固体表面科学、真空技术和材料工程的发展密切相关。
随着固体表面科学和真空技术的进一步发展，PVD技术逐渐成为一种重要的薄膜沉积方法。人们开始利用溅射、蒸发和激光等技术，实现对薄膜成分、厚度和结构的精确控制PVD技术在微电子、光学、表面涂层等领域得到了广泛应用，并不断地得到改进和优化，以满足不断发展的工业需求。
我们的技术
热蒸发
样品尺寸：6″及以下
均匀性：≤±5%
可生长工艺：
Ag、Al、Sn、In、Bi等
电子束蒸发
样品尺寸：8″及以下
不均匀性：≤±5%
可生长工艺：
Ti、Cr、Ni、Ag、Al、Ge、
Sn、Pt、Au、AuBe、
AuGeNi、AuSn、TiAl、TiNi等
金属磁控
样品尺寸：12“及以下
不均匀性：≤±5%
可生长工艺：
Ti、Al、Cr、Pt、 TiW、
Mo、W、Ta、Ni、Au、
Ag、Cu、ITO、TiN、ScAlN
等
介质磁控
样品尺寸：8“及以下
不均匀性：≤±5%
可生长工艺：
Nb2O5、TiO2、SiO2、
SiNx、TiN、PZT等
我们的优势
领先技术
我们拥有先进的PVD技术能够实现精确控制的物理气相沉积过程，确保涂层具有优异的性能和质量。
多领域应用
我们的PVD解决方案适用于多个行业，包括汽车、航空航天、医疗设备等，为各种产品提供保护和功能性增强。
定制化设计
我们的团队能够根据您的具体需求定制化设计涂层方案，确保满足您的技术和商业目标
质量保证
我们严格遵循国际标准和质量管理体系，保证每一批产品都符合高标准的质量要求
定制流程
1.沟通需求
选择您对衬底规格、沉积材料、镀膜厚度、工艺选择或者更多需求
2.方案报价
我们根据给您提供的最佳加工方案给出最合理的报价
3.生产及质量把控
把控质量，全权负责您的产品符合我们的标准制作
4.按期交货
按期一周内将产品交付到您手上
联系我们
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我们会第一时间与您联系
