纳米压印模板丨孔阵列精密纳米结解决方案 - 港湾半导体

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纳米压印模板 – 孔阵列

4 英寸纳米压印模板，可应用于纳米过滤器、纳米传感器等，控制物质的传输、分离和检测，实现高灵敏度分析和探测能力

数据表

纳米压印模板产品表

产品详情

六边形阵列
六边形阵列二
方形阵列
特点及优势
描述

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅/石英）	孔直径	型号
200nm	φ 94 mm	120nm/100nm	90-120 nm	H200H_D100
350nm	φ 94 mm	200nm/100nm	120-170 nm	H350H_D100
450nm	φ 50 mm	350nm/150nm	220-260 nm	H450H_D50
500nm	φ 94 mm	500nm/300nm	250-300 nm	H500H_D100
600nm	φ 94 mm	450nm/200nm	250-300 nm	H600H_D100
750nm	51x51 mm²	450nm/200nm	250-350 nm	H750H_51x51
780nm	φ 50 mm	450nm/200nm	250-380 nm	H780H_D50
870nm	φ 94 mm	550nm/250nm	300-45 nm	H870H_D100
1000nm	φ 94 mm	600nm/300nm	300~500 nm	H1000H_D100
1500nm	51x51 mm²	600nm/300nm	400~650 nm	H1500H_51x51
1700nm	φ 94 mm	800nm/400nm	500~800 nm	H1700H_D100
2000nm	φ 94 mm	800nm/400nm	600~1100 nm	H2000H_D100
3000nm	φ 94 mm	1000nm/400nm	600~1400 nm	H3000H_D100
3500nm	φ 94 mm	1200nm/500nm	800~1600 nm	H3500H_D100
5200nm	φ 94 mm	1200nm/500nm	1200~2400 nm	H5200H_D100

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅）	孔直径	型号
200nm	20x20 mm²	200 nm	100 nm	H200H_20x20
345nm	20x20 mm²	200 nm	227 nm	H345H_20x20
500nm	0.2x0.2 mm²（9x）	110 nm	50 nm	H500H_02x02
600nm	20x20 mm²	300 nm	300 nm	H600H_25x25
750nm	25x25 mm²	420 nm	380 nm	H750H_25x25
1000nm	0.2x0.2 mm²（9x）	110 nm	100 nm	H1000H_02x02
1010nm	15x15 mm²	300 nm	390 nm	H1010H_15x15
1010nm	25x25 mm²	300 nm	490 nm	H1010H_25x25
1010nm	25x25 mm²	350 nm	470 nm	H1010H_25x25
2000nm	0.2x0.2 mm²（9x）	110 nm	200 nm	H2000H_02x02
3000nm	20x20 mm²	850 nm	1500 nm	H3000H_20x20
3000nm	20x20 mm²	1500 nm	1200 nm	H3000H_20x20

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅/石英）	孔直径	型号
125nm	φ 90mm	150nm/100nm	50~70 nm	H125S_D90
125nm	20x20 mm²	90nm/—	65 nm	H125S_20x20
140nm	Φ 80mm	150nm/100nm	60~80 nm	H140S_D80
150nm	φ 90mm	150nm/100nm	60~90 nm	H150S_D90
150nm	5x5 mm²	100nm/—	65 nm	H150S_5x5
190nm	φ 94mm	180nm/140nm	85~115 nm	H190S_D100
200nm	φ 90mm	200nm/150nm	70~120 nm	H200S_D90
200nm	5x5 mm²	110nm/—	70 nm	H200S_5x5
235nm	φ 94mm	200nm/150nm	100~135 nm	H235S_D100
250nm	5x5 mm²	110nm/—	70 nm	H250S_5x5
300nm	φ 90mm	200nm/150nm	120~180 nm	H300S_D90
350nm	φ 94mm	300nm/150nm	240~280 nm	H350S_D100
350nm	20x20 mm²	300nm/—	250 nm	H350S_20x20
375nm	φ 94mm	200nm/100nm	150~250 nm	H375S_D100

特点和优势：

高分辨率：我们的纳米压印模板具有出色的分辨率能力，可以在纳米尺度上实现复杂的图案。这种高分辨率的特性使得它成为研究纳米尺度现象和制造纳米器件的理想选择。
高精度：我们的模板制造过程采用先进的纳米加工技术，确保了高度一致性和精度。这种高精度保证了每个模板都能提供可靠且重复性的图案转移效果。
多功能性：我们的纳米压印模板可用于各种应用领域。它可以用于制造纳米电子器件，如纳米晶体管和纳米线路。它还可用于光电子器件的制造，如纳米光栅和光子晶体。此外，它在生物医学领域的应用也非常广泛，例如制造生物芯片和纳米传感器。
高效性：我们的纳米压印模板制造过程高效且可扩展。它可以批量生产，适用于大规模制造需求。这种高效性使得我们的产品成为工业界和学术界研究的首选。
定制化：我们可以根据客户的需求提供定制化的纳米压印模板。无论是特定的图案设计还是特殊的材料要求，我们的团队都可以为您量身定制最佳解决方案。

纳米压印模板中的六边形孔阵列和矩形孔阵列是两种常见的孔状结构模式，用于实现精确的纳米级图案转移和制备。

这两种孔阵列模板在纳米压印过程中具有高度的制备一致性和可重复性，能够满足精密纳米结构制备的需求。它们为纳米制造、纳米器件研究和生物医学应用等领域提供了重要的工具和解决方案。

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纳米压印模板-孔阵列1

纳米压印模板-六边形孔阵列-顶视图

纳米压印模板-矩形孔阵列-顶视图

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