纳米压印模板丨柱阵列精密纳米结解决方案 - 港湾半导体

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纳米压印模板 – 柱阵列

可应用于光子学器件制造、纳米滤波器和表面增强拉曼光谱等领域，用于控制光的传播和相互作用，实现光学性能的调控和增强

数据表

纳米压印模板产品表

产品详情

六边形阵列
六边形阵列二
方形阵列
方形阵列二
特点及优势

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅/石英）	柱直径	型号
200nm	φ94 mm	120nm/100nm	90~120 nm	P200H_D100
350nm	φ50 mm	350nm/150nm	120~170 nm	P350H_D50
450nm	φ94 mm	450nm/200nm	220~260 nm	P450H_D100
600nm	φ94 mm	450nm/200nm	250~300 nm	P600H_D100
750nm	51x51 mm²	450nm/200nm	250~350 nm	P750H_51x51
780nm	φ50 mm	450nm/200nm	250~350 nm	P780H_D50
870nm	φ94 mm	550nm/250nm	300~400 nm	P870H_D100
1000nm	φ94 mm	600nm/300nm	300~500 nm	P1000H_D100
1500nm	51x51 mm²	600nm/300nm	400~650 nm	P1500H_51x51
1700nm	φ94 mm	800nm/400nm	500~800 nm	P1700H_D100
2000nm	φ94 mm	800nm/400nm	600~1100 nm	P2000H_D100
3000nm	φ94 mm	1000nm/400nm	600~1400 nm	P3000H_D100
3500nm	φ94 mm	1200nm/500nm	600~1600 nm	P3450H_D100
5200nm	φ94 mm	1200nm/500nm	600~2000 nm	P5200H_D100

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅）	柱直径	型号
200nm	20x20 mm²	90 nm	110 nm	P200H_20x20
350nm	20x20 mm²	260 nm	130 nm	P350H_20x20
400nm	5x5 mm²	100 nm	140 nm	P400H_D100
600nm	20x20 mm²	310 nm	300 nm	P600H_D100
750nm	25x25 mm²	260 nm	325 nm	P750H_D100
1000nm	20x20 mm²	470 nm	470 nm	P1000H_D100
1732nm	20x20 mm²	590 nm	880 nm	P1732H_D100
3000nm	20x20 mm²	5000 nm	1400 nm	P3000H_D100
3000nm	20x20 mm²	1200 nm	1800 nm	P3000H_D100
250nm	14x14 mm²	150 nm	136 nm（锥形）	P250H_D100

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅/石英）	柱直径	型号
125nm	φ90mm	90nm/60nm	50~70nm	P125S_D90
140nm	φ80mm	75nm/ —	50~75nm	P140S_D80
150nm	φ90mm	75nm/ —	60~85nm	P150S_D90
250nm	φ94mm	200nm/100nm	110~130nm	P250S_D90
280nm	Φ80mm	200nm/100nm	120~150nm	P280S_D80
300nm	φ94mm	200nm/100nm	120~160nm	P300S_D100
380nm	φ94mm	400nm/300nm	160~220nm	P380S_D100
400nm	φ94mm	300nm/100nm	150~220nm	P400S_D100
480nm	φ94mm	500nm/400nm	200~270nm	P480S_D100
500nm	φ94mm	400nm/150nm	200~250nm	P500S_D100
560nm	Φ80mm	400nm/150nm	200~280nm	P560S_D80
600nm	φ94mm	500nm/250nm	200~300nm	P600S_D100
760nm	φ94mm	700nm/600nm	330~430nm	P760S_D100
800nm	φ94mm	500nm/300nm	200~400nm	P800S_D100

周期	有效面积	最大刻蚀深度（硅）	柱直径	型号
125nm	10x10 mm²	95 nm	54 nm	P125S_10x10
125nm	20x20 mm²	95 nm	74 nm	P125S_20x20
150nm	20x20 mm²	135 nm	62 nm	P150S_20x20
150nm	5x5 mm²	110 nm	80 nm	P150S_5x5
250nm	20x20 mm²	200 nm	115 nm	P250S_20x20
300nm	14x14 mm²	170 nm	145 nm	P300S_D100
550nm	20x20 mm²	150nm/300nm	300 nm	P380S_D100
800nm	20x20 mm²	250 nm	440 nm	P400S_D100

特点和优势：

高分辨率：我们的纳米压印模板具有出色的分辨率能力，可以在纳米尺度上实现复杂的图案。这种高分辨率的特性使得它成为研究纳米尺度现象和制造纳米器件的理想选择。
高精度：我们的模板制造过程采用先进的纳米加工技术，确保了高度一致性和精度。这种高精度保证了每个模板都能提供可靠且重复性的图案转移效果。
多功能性：我们的纳米压印模板可用于各种应用领域。它可以用于制造纳米电子器件，如纳米晶体管和纳米线路。它还可用于光电子器件的制造，如纳米光栅和光子晶体。此外，它在生物医学领域的应用也非常广泛，例如制造生物芯片和纳米传感器。
高效性：我们的纳米压印模板制造过程高效且可扩展。它可以批量生产，适用于大规模制造需求。这种高效性使得我们的产品成为工业界和学术界研究的首选。
定制化：我们可以根据客户的需求提供定制化的纳米压印模板。无论是特定的图案设计还是特殊的材料要求，我们的团队都可以为您量身定制最佳解决方案。

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纳米柱阵列-间距250nm-高度200nm-

纳米压印模板-六边形柱阵列-顶视图

纳米压印模板-矩形柱阵列-顶视图

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