港湾半导体

纯硅薄膜窗口
纯硅薄膜窗口具有优异的光学性能、高稳定性、低光损失等优点
数据表
氮化硅薄膜窗口产品表

产品详情

售卖单位
10个/包
材料组成
非晶硅
芯片尺寸
直径 3 mm
芯片厚度
100 μm
薄膜厚度
5 nm,9 nm,15 nm,25 nm,35 nm
窗口大小
0.025  x 0.025,0.05 x 0.05,0.05 x 1.5,0.1 x 1.5 mm
窗口数量
1个、2个、9个
孔径大小
无孔,纳米孔

1、透明性:纯硅薄膜窗口是一种非常透明的材料,具有高透光率和低散射率。这使得它们非常适合用于需要高清晰度的应用,如光学显微镜、太阳能电池和光学传感器等。

2、高稳定性:纯硅薄膜窗口非常稳定,能够承受高温、高湿度和强酸等恶劣环境。这使得它们非常适合用于需要长期稳定性的应用,如微电子学和纳米技术等。

3、低光损失:纯硅薄膜窗口具有低反射率和低吸收率,因此能够减少光信号的损失。这使得它们非常适合用于需要高灵敏度的应用,如光学传感器和光学通信等。

纯硅薄膜窗口是一种透明的窗口材料,通常由单晶硅片制成。它具有高透光率和高机械稳定性,因此在科学研究和工业生产中被广泛使用。

硅材料在可见光范围内具有很好的透过性,并且能够在红外和紫外光谱范围内表现出色散性能。硅薄膜窗口通常在厚度几微米至几十微米之间,可以根据应用的需要进行定制。它们可以承受高压和高温环境,因此在化学反应、高温氧化和熔融金属处理等领域中被广泛使用。

此外,纯硅薄膜窗口还具有低自发发光和低自发发热的特性,这使得它们在精密光学和光电学领域中也得到了广泛应用。

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