Получение тонких пленок нитрида титана (TiN) методом ALD
пройти (законопроект, проверку и т.д.)Процесс атомно-слоевого осаждения (ALD)подготовленоТонкие пленки из нитрида титана (TiN)Пленки TiN обладают высокой твердостью, отличной износостойкостью, высокой коррозионной стойкостью, низким коэффициентом трения, высокой температурной стабильностью, электропроводностью, отличной биосовместимостью и эстетически привлекательными декоративными свойствами. Эти превосходные свойства привели к широкому применению пленок TiN в различных областях, таких как механическая обработка, электроника и полупроводники, декорирование, биомедицина, оптика и аэрокосмическая промышленность. Хотя процесс ALD имеет такие недостатки, как более низкая скорость осаждения и более высокая стоимость оборудования, его преимущества в получении высококачественных пленок TiN не имеют себе равных.
Свойства пленок нитрида титана
- Высокая твердость: пленки TiN имеют твердость по Виккерсу примерно 1800-2100 HV, что обеспечивает отличную износостойкость.
- Отличная износостойкость: пленки TiN значительно повышают износостойкость подложки в условиях высокого трения и сильного износа.
- Высокая коррозионная стойкость: пленки TiN обладают хорошей устойчивостью ко многим химическим веществам, особенно в кислой и щелочной среде.
- Низкий коэффициент трения: коэффициент трения составляет около 0,4-0,6, что способствует снижению износа и улучшению смазки.
- Высокотемпературная стабильность: пленки TiN обладают хорошей химической и физической стабильностью при высоких температурах и могут выдерживать температуру до 600-800°C.
- Электропроводность: пленки TiN обладают хорошей электропроводностью с удельным сопротивлением около 25-30 мкОм-см.
- Отличная биосовместимость: пленки TiN нетоксичны и биосовместимы, что делает их подходящими для биомедицинских покрытий.
- Декоративные: пленка TiN имеет золотисто-желтый блеск и не легко выцветает, обычно используется в декоративных покрытиях.
Процесс атомно-слоевого осаждения (ALD)
Атомно-слоевое осаждение (ALD) - это метод осаждения тонких пленок, основанный на самоограничивающейся химической реакции, при которой толщина и состав пленки точно контролируются путем поэтапного введения газов-прекурсоров. ALD-процесс особенно хорошо подходит для получения высококачественных, ультратонких и однородных пленок TiN.
Этапы процесса получения тонких пленок TiN методом ALD
1. чистота поверхности подложки: убедитесь, что поверхность подложки чистая и не содержит органических веществ и окислов.
2. введение прекурсоров: поочередное введение газов-прекурсоров титана и азота.
- Часто используемые прекурсоры титана: тетрахлорид титана (TiCl₄), тетраизопропоксид титана (Ti(OiPr)₄).
- Часто используемые предшественники азота: аммиак (NH₃), азот (N₂).
3. Этапы реакции:
- Адсорбция титановых прекурсоров: титановые прекурсоры вводятся в реакционную камеру при определенной температуре для адсорбции на поверхности подложки.
- Продувка: Продувка инертным газом (например, азотом) для удаления избытка прекурсоров титана и побочных продуктов.
- Реакция с азотным прекурсором: азотный прекурсор вводится и реагирует с титановым прекурсором, адсорбированным на поверхности подложки, образуя пленку нитрида титана.
- Повторная очистка: Продувка инертным газом для удаления избыточных азотных прекурсоров и побочных продуктов.
4. Циклическое осаждение: повторяйте вышеуказанные шаги, слой за слоем, пока не будет достигнута желаемая толщина пленки.
vantage
- Точный контроль толщины: за одну реакцию осаждается только один атомный слой, что позволяет точно контролировать толщину пленки.
- Высокая однородность: пленка равномерно распределяется по сложным формам и большим подложкам.
- Низкотемпературный процесс: низкая температура осаждения, подходит для чувствительных к температуре подложек.
- Высококачественная пленка: плотная пленка, высокая чистота, мало дефектов.
недостатки
- Низкая скорость осаждения: за цикл осаждается только один атомный слой, и общая скорость осаждения низкая.
- Сложное и дорогостоящее оборудование: требуется точный контроль расхода и температуры газа, а стоимость оборудования высока.
Мы предлагаем Атомно-слоевое осаждение (ALD) Услуги по изготовлению OEM на заказне стесняйтесь оставлять комментарии.
Сопутствующие товары
Связанное чтение
Принцип и характеристики получения тонких пленок методом напыления
Принципы и особенности получения тонких пленок методом напыления Технология напыления представляет собой физическое осаждение из паровой фазы
Как правильно выбрать тонкопленочное окно из нитрида кремния丨Научное руководство
С помощью этого руководства вы сможете принимать обоснованные решения для оптимизации процесса получения изображений с помощью ТЭМ, анализа РЭМ, исследований в области бионаук или производства полупроводников.
Научное руководство: Введение, принципы и сценарии применения тонкопленочных окон из нитрида кремния
Научное руководство: Введение, свойства и сценарии применения тонкопленочных окон из нитрида кремния Нитрид
