Разница между LPCVD и PECVD
Разница между LPCVD и PECVD Благодаря работе при высоких температурах в среде с низким давлением, L
Главная " Каталог " Трафареты с нанотиснением " Шаблоны наноотпечатков丨Hole Arrays Precision Nanojunction Solutions - Harbor Semiconductor
Периодичность | Эффективная площадь | Максимальная глубина травления (кремний/кварц) | Диаметр отверстия | Модель |
200нм | φ 94 мм | 120нм/100нм | 90-120 нм | H200H_D100 |
350 нм | φ 94 мм | 200нм/100нм | 120-170 нм | H350H_D100 |
450 нм | φ 50 мм | 350нм/150нм | 220-260 нм | H450H_D50 |
500нм | φ 94 мм | 500нм/300нм | 250-300 нм | H500H_D100 |
600 нм | φ 94 мм | 450нм/200нм | 250-300 нм | H600H_D100 |
750нм | 51x51 мм² | 450нм/200нм | 250-350 нм | H750H_51x51 |
780нм | φ 50 мм | 450нм/200нм | 250-380 нм | H780H_D50 |
870нм | φ 94 мм | 550нм/250нм | 300-45 нм | H870H_D100 |
1000нм | φ 94 мм | 600нм/300нм | 300~500 нм | H1000H_D100 |
1500нм | 51x51 мм² | 600нм/300нм | 400~650 нм | H1500H_51x51 |
1700нм | φ 94 мм | 800нм/400нм | 500~800 нм | H1700H_D100 |
2000нм | φ 94 мм | 800нм/400нм | 600~1100 нм | H2000H_D100 |
3000нм | φ 94 мм | 1000нм/400нм | 600~1400 нм | H3000H_D100 |
3500нм | φ 94 мм | 1200нм/500нм | 800~1600 нм | H3500H_D100 |
5200нм | φ 94 мм | 1200нм/500нм | 1200~2400 нм | H5200H_D100 |
Периодичность | Эффективная площадь | Максимальная глубина травления (кремний) | Диаметр отверстия | Модель |
200нм | 20x20 мм² | 200 нм | 100 нм | H200H_20x20 |
345 нм | 20x20 мм² | 200 нм | 227 нм | H345H_20x20 |
500нм | 0,2x0,2 мм² (9x) | 110 нм | 50 нм | H500H_02x02 |
600 нм | 20x20 мм² | 300 нм | 300 нм | H600H_25x25 |
750нм | 25x25 мм² | 420 нм | 380 нм | H750H_25x25 |
1000нм | 0,2x0,2 мм² (9x) | 110 нм | 100 нм | H1000H_02x02 |
1010нм | 15x15 мм² | 300 нм | 390 нм | H1010H_15x15 |
1010нм | 25x25 мм² | 300 нм | 490 нм | H1010H_25x25 |
1010нм | 25x25 мм² | 350 нм | 470 нм | H1010H_25x25 |
2000нм | 0,2x0,2 мм² (9x) | 110 нм | 200 нм | H2000H_02x02 |
3000нм | 20x20 мм² | 850 нм | 1500 нм | H3000H_20x20 |
3000нм | 20x20 мм² | 1500 нм | 1200 нм | H3000H_20x20 |
Периодичность | Эффективная площадь | Максимальная глубина травления (кремний/кварц) | Диаметр отверстия | Модель |
125 нм | φ 90 мм | 150нм/100нм | 50-70 нм | H125S_D90 |
125 нм | 20x20 мм² | 90 нм/- | 65 нм | H125S_20x20 |
140 нм | Φ 80 мм | 150нм/100нм | 60~80 нм | H140S_D80 |
150нм | φ 90 мм | 150нм/100нм | 60-90 нм | H150S_D90 |
150нм | 5x5 мм² | 100 нм/- | 65 нм | H150S_5x5 |
190 нм | φ 94 мм | 180нм/140нм | 85~115 нм | H190S_D100 |
200нм | φ 90 мм | 200нм/150нм | 70-120 нм | H200S_D90 |
200нм | 5x5 мм² | 110 нм/- | 70 нм | H200S_5x5 |
235нм | φ 94 мм | 200нм/150нм | от 100 до 135 нм | H235S_D100 |
250нм | 5x5 мм² | 110 нм/- | 70 нм | H250S_5x5 |
300 нм | φ 90 мм | 200нм/150нм | 120-180 нм | H300S_D90 |
350 нм | φ 94 мм | 300нм/150нм | 240 - 280 нм | H350S_D100 |
350 нм | 20x20 мм² | 300 нм/- | 250 нм | H350S_20x20 |
375 нм | φ 94 мм | 200нм/100нм | 150 - 250 нм | H375S_D100 |
Особенности и преимущества:
Высокое разрешение: Наши трафареты для наноимпринтов обладают превосходным разрешением, что позволяет получать сложные рисунки в наномасштабе. Такое высокое разрешение делает их идеальными для изучения наноразмерных явлений и изготовления наноустройств.
Высокая точность: В нашем процессе производства трафаретов используется передовая технология нанофабрикации, обеспечивающая высокую степень согласованности и точности. Такая высокая точность гарантирует, что каждый трафарет обеспечивает надежные и повторяющиеся результаты переноса рисунка.
Универсальность: Наш трафарет для наноимпринтинга может использоваться в различных областях. Его можно использовать для изготовления наноэлектронных устройств, таких как нанотранзисторы и нанопроволоки. Его также можно использовать для изготовления оптоэлектронных устройств, таких как наногратты и фотонные кристаллы. Кроме того, он имеет широкий спектр применения в биомедицинской области, например, для изготовления биочипов и наносенсоров.
Эффективность: Наш процесс производства нанотрафаретов эффективен и масштабируем. Он может производиться массово и подходит для крупномасштабного производства. Такая высокая эффективность делает нашу продукцию первым выбором для исследований в промышленности и научных кругах.
Изготовление на заказ: Мы можем предоставить трафареты для нанотиснения на заказ в соответствии с потребностями наших клиентов. Будь то специфический графический дизайн или особые требования к материалу, наша команда сможет подобрать для вас оптимальное решение.
Гексагональные массивы отверстий и прямоугольные массивы отверстий в нанотрафаретах - два распространенных шаблона дырчатых структур, используемых для достижения точного переноса и подготовки наноразмерного рисунка.
Эти два типа шаблонов с массивом отверстий обеспечивают высокую однородность и воспроизводимость подготовки при наноимпринтинге и способны удовлетворить требования к точности подготовки наноструктур. Они обеспечивают важные инструменты и решения для таких областей, как нанофабрикация, исследование наноустройств и биомедицинские приложения.
Разница между LPCVD и PECVD Благодаря работе при высоких температурах в среде с низким давлением, L
Принципы и применение технологии нанесения оптических покрытий Принципы процесса нанесения оптических покрытий в основном связаны с оптическими элементами
Влияние процесса отжига на платиновые резисторы В области высокоточных измерений температуры используются тонкопленочные платиновые резисторы, так как
Магнетронное напыление - процесс изготовления платиновых датчиков температуры В современной технологии датчики температуры