Разница между LPCVD и PECVD
Разница между LPCVD и PECVD Благодаря работе при высоких температурах в среде с низким давлением, L
Синхротронное (рентгеновское) окно из тонкой пленки нитрида кремния
Широко используется в рентгенофлуоресцентном анализе, электронной энергетической спектроскопии, рентгеновской дифракции и рентгеновском поглощении. Изготовлен с использованием самого передового производственного процесса MEMS.
Лист данных
Лист продукции для тонкопленочных окон из нитрида кремния
Детали продукта
Продажные единицы
10шт/упак
Размер микросхемы
5 x 5 мм, 7,5 x 7,5 мм, 10 x 10 мм
Толщина стружки
200 мкм
Толщина пленки
10 нм, 20 нм, 30 нм, 50 нм, 100 нм, 200 нм
Размер окна
0,1 x 0,1, 0,25 x 0,25, 0,5 x 0,5, 1 x 1, 1,5 x 1,5, 2 x 2, 3 x 3, 5 x 5 мм
Количество окон
1 шт.
Размер диафрагмы
Нет отверстий
Стрессовые состояния
<250МПа
Преимущества пленок из нитрида кремния:
- Устойчивость к кислотам/щелочам: образцами можно манипулировать и изучать в кислотных и щелочных условиях.
- Высокая термостойкость: пленки выдерживают температуру до 1000°C
- Не содержит углерода, легко чистится
- Большое видение
- Поддержка широкого спектра микроскопов: например, TEM, SEM, FIB, EDX, Auger, XPS и AFM/SPM
Преимущества нашей продукции:
- Прочные пленки нитрида кремния толщиной 10, 20, 30, 50, 100 и 200 нм
- Стандартная спецификация: полностью совместим со стандартными 3,05 мм креплениями TEM
- Доступны стандартная толщина рамы 200 мкм и более тонкая 100 мкм
- Гидрофильные/гидрофобные пленки из нитрида кремния поставляются по запросу
- Чистая, очень ровная пленка нитрида кремния
- С высокой прочностью и плоскостностью
- Низкий уровень стресса
Наши опорные пленки из нитрида кремния изготавливаются с использованием самых передовых технологий производства полупроводников и МЭМС. Аморфные опорные пленки нитрида кремния выращиваются на кремниевых пластинах до требуемой толщины пленки 10, 20, 30, 50, 100 или 200 нм.
Область просмотра образца создается путем вытравливания окна в кремниевой подложке, оставляя идеально гладкую, гибкую и химически устойчивую пленку нитрида кремния. Для изготовления рамки используется кремниевый диск диаметром 3 мм. Она идеально подходит для стандартных креплений TEM. Стандартная толщина кремниевой рамки составляет 100 мкм/200 мкм, что подходит для большинства креплений ТЭМ.
Найти технические характеристики грохотов
Похожие товары, которые могут вас заинтересовать
Похожие товары
Не можете найти нужный вам чип?
Мы предлагаем индивидуальные услуги по обработке чипов в соответствии с вашими потребностями.
Последние новости
История о наших возможностях, наших исследованиях и меняющемся облике нашей компании.
Принципы процесса и применение оптических покрытий
Принципы и применение технологии нанесения оптических покрытий Принципы процесса нанесения оптических покрытий в основном связаны с оптическими элементами
Влияние процесса отжига на стойкость платины
Влияние процесса отжига на платиновые резисторы В области высокоточных измерений температуры используются тонкопленочные платиновые резисторы, так как
Процесс магнетронного напыления для изготовления платиновых датчиков температуры
Магнетронное напыление - процесс изготовления платиновых датчиков температуры В современной технологии датчики температуры
