Особенности и преимущества:

1. Высокое разрешение: Наши трафареты для наноимпринтов обладают превосходным разрешением, что позволяет получать сложные рисунки в наномасштабе. Такое высокое разрешение делает их идеальными для изучения наноразмерных явлений и изготовления наноустройств.

2. Высокая точность: В нашем процессе производства трафаретов используется передовая технология нанофабрикации, обеспечивающая высокую степень согласованности и точности. Такая высокая точность гарантирует, что каждый трафарет обеспечивает надежные и повторяющиеся результаты переноса рисунка.

3. Универсальность: Наш трафарет для наноимпринтинга может использоваться в различных областях. Его можно использовать для изготовления наноэлектронных устройств, таких как нанотранзисторы и нанопроволоки. Его также можно использовать для изготовления оптоэлектронных устройств, таких как наногратты и фотонные кристаллы. Кроме того, он имеет широкий спектр применения в биомедицинской области, например, для изготовления биочипов и наносенсоров.

4. Эффективность: Наш процесс производства нанотрафаретов эффективен и масштабируем. Он может производиться массово и подходит для крупномасштабного производства. Такая высокая эффективность делает нашу продукцию первым выбором для исследований в промышленности и научных кругах.

5. Изготовление на заказ: Мы можем предоставить трафареты для нанотиснения на заказ в соответствии с потребностями наших клиентов. Будь то специфический графический дизайн или особые требования к материалу, наша команда сможет подобрать для вас оптимальное решение.

Шаблон для наноимпринтинга (массив проволочной сетки) является ключевым компонентом, используемым в технологии наноимпринтинга. Он представляет собой шаблон, состоящий из наноразмерных проволочных сеток для переноса рисунка с высоким разрешением на поверхность целевого материала.

Основной характеристикой наноимпринтных трафаретов (массивов проволочной сетки) является их проволочная структура. Проволочная сетка представляет собой узор из длинных тонких полос, расположенных параллельно. Расстояние и размер этих решеток можно точно контролировать на наноуровне, обычно в диапазоне от нескольких десятков до сотен нанометров. Форма и расположение решеток могут быть спроектированы и настроены в соответствии с требованиями конкретного приложения.

Точность продукта:

Высота/Глубина: ± 15% Ширина линии: ± 10%

Диаметр: ± 10% Площадь дефекта: < 1%