Почему стоит выбрать электронно-лучевую технологию вакуумного испарения (EB-PVD)
Что такое вакуумное испарение
Вакуумное испарение - это физический процесс изменения фаз и диффузии, при котором вещество переходит из твердого или жидкого состояния в газообразное в вакууме, то есть под давлением. Поскольку процесс испарения происходит в вакууме, температура испарения ниже, чем при стандартном атмосферном давлении, а скорость испарения выше, чем в атмосфере, поэтому металлические материалы с более высокими точками плавления и кипения в стандартном состоянии легче испаряются в вакууме и могут использоваться в технике.
Почему EB-PVD
Процесс испарения вещества в вакууме, с точки зрения классификации скорости испарения, делится на медленный процесс испарения и быстрый процесс испарения двух типов, также известный как слабый процесс испарения и сильный процесс испарения. Под скоростью испарения понимается масса вещества, испаряемая на единицу площади в единицу времени. Скорость испарения вещества в вакууме, в теории в основном зависит от испарения температуры поверхности и давления насыщенного пара и других физических свойств, но на практике, процесс испарения необходимо рассматривать комплексно, включая процесс теплопередачи, процесс диффузии вещества, процесс фазового перехода и другие воздействия на испарение.
В вакууме, чтобы заставить вещество быстро испариться, необходимо нагреть вещество, и существует множество различных методов нагрева, включая электронный луч, лазерный луч, резистивное тепло, магнетронное распыление и другие методы, которые относительно широко используются.пучок электронови лазерный метод нагрева. Преимущества обоих методов - высокая плотность энергии и контролируемая площадь плавления. Электронный луч проще в проектировании и реализации, чем лазерный.
В настоящее время наиболее важными технологиями применения вакуумного испарения являются технология вакуумного испарения покрытий, технология вакуумного испарения металлургии, технология вакуумного испарения порошков и т.д. Обработка отходов вакуумным испарением относится к применению технологии вакуумного испарения металлургии. Использование метода вакуумного испарения для приготовления различных тонкопленочных материалов и покрытий стало более зрелым применением технологии. В условиях высокого вакуума, нагревая охлаждаемый водой тигель, материал испаряется, испаренный газообразный материал диффундирует и конденсируется на подложке, образуя таким образом слой микронных или наноразмерных тонких пленок. Эти пленки или покрытия в основном обладают оптическими, электрическими и другими функциональными свойствами, а их толщина в основном находится на микронном или нанометровом уровне, а скорость испарения в процессе подготовки медленная, относящаяся к процессу медленного испарения, и количество испарения легко контролировать.
Когда металл нагревается до определенной температуры, электроны на его поверхности получают достаточно тепловой энергии, чтобы преодолеть силу связи с поверхностью металла, отрываясь от нее и образуя облако свободных электронов. Эти свободные электроны под действием электрического и магнитного полей будут двигаться в определенном направлении, образуя поток электронных пучков.
Преимущества выбора технологии EB-PVD
1. Высокая скорость осаждения:
В электронно-лучевом испарении используется высокоэнергетический электронный луч для непосредственного нагрева материала, благодаря чему достигается более высокая скорость осаждения. Это означает, что за более короткий промежуток времени можно осадить больше материала, что повышает производительность.
2. Равномерная толщина пленки:
Электронно-лучевое испарение обеспечивает точный механизм управления, который гарантирует формирование однородной пленки на поверхности подложки. Такая однородность имеет решающее значение для многих применений, особенно при производстве оптических и электронных устройств.
3. Высокочистые пленки:
Поскольку электронно-лучевое испарение происходит в вакуумной среде, примеси и загрязнения из воздуха исключены. Это означает, что получаемые пленки обычно отличаются высокой чистотой и подходят для применения в областях, требующих высокой чистоты материала.
4. Применим к широкому спектру материалов:
Электронно-лучевое испарение может использоваться для нанесения различных типов материалов, включая металлы, оксиды, кремний и другие. Это делает его полезным для широкого спектра применений при получении композитных и сплавных пленок, а также различных функциональных пленок.
5. Применимо к сложным формам:
Электронно-лучевое испарение требует меньших требований к форме и геометрии подложки, чем некоторые другие методы осаждения. Это означает, что на подложки можно наносить покрытия самых разных сложных форм, включая микро- и наноструктуры и трехмерные фигуры.
6. совместимость с другими технологиями:
Электронно-лучевое испарение можно комбинировать с другими методами, такими как ионно-лучевое травление и физическое осаждение из паровой фазы, для получения более сложных тонкопленочных структур. Такая гибкость дает ему преимущество при получении многослойных пленок и наноструктур.
Мы предлагаем Осаждение электронно-лучевым испарением (EB-PVD) Услуги по OEM-заказуне стесняйтесь оставлять комментарии.
Сопутствующие товары
Связанное чтение
Принципы, преимущества и применение атомно-слоевого осаждения (ALD)
Принципы, преимущества и применение осаждения атомных слоев (ALD) Осаждение атомных слоев
Принципы и преимущества химического осаждения из паровой плазмы (PE-CVD)
Принципы и преимущества плазменного химического осаждения из паровой фазы (PE-CVD)
Применение тонкопленочных окон из нитрида кремния Материаловедение丨Полупроводники丨Биология
Продукты с тонкопленочными окнами из нитрида кремния используются в широком спектре приложений в материаловедении, производстве и анализе полупроводников и бионауке. Наша высококачественная продукция обеспечивает возможность получения изображений с высоким разрешением для широкого спектра типов и размеров образцов.
