Harbor Semiconductor

Трафареты с нано тиснением - Массивы отверстий
4" трафарет с нанопечатью для применения в таких областях, как нанофильтры, наносенсоры и т.д. для контроля переноса, разделения и обнаружения веществ для высокочувствительных возможностей анализа и обнаружения
Лист данных
Лист продукции по трафаретам для наноимпринтинга

Детали продукта

ПериодичностьЭффективная площадьМаксимальная глубина травления (кремний/кварц)Диаметр отверстияМодель
200нмφ 94 мм120нм/100нм90-120 нмH200H_D100
350 нмφ 94 мм200нм/100нм120-170 нмH350H_D100
450 нмφ 50 мм350нм/150нм220-260 нмH450H_D50
500нмφ 94 мм500нм/300нм250-300 нмH500H_D100
600 нмφ 94 мм450нм/200нм250-300 нмH600H_D100
750нм51x51 мм²450нм/200нм250-350 нмH750H_51x51
780нмφ 50 мм450нм/200нм250-380 нмH780H_D50
870нмφ 94 мм550нм/250нм300-45 нмH870H_D100
1000нмφ 94 мм600нм/300нм300~500 нмH1000H_D100
1500нм51x51 мм²600нм/300нм400~650 нмH1500H_51x51
1700нмφ 94 мм800нм/400нм500~800 нмH1700H_D100
2000нмφ 94 мм800нм/400нм600~1100 нмH2000H_D100
3000нмφ 94 мм1000нм/400нм600~1400 нмH3000H_D100
3500нмφ 94 мм1200нм/500нм800~1600 нмH3500H_D100
5200нмφ 94 мм1200нм/500нм1200~2400 нмH5200H_D100
ПериодичностьЭффективная площадьМаксимальная глубина травления (кремний)Диаметр отверстияМодель
200нм20x20 мм²200 нм100 нмH200H_20x20
345 нм20x20 мм²200 нм227 нмH345H_20x20
500нм0,2x0,2 мм² (9x)110 нм50 нмH500H_02x02
600 нм20x20 мм²300 нм300 нмH600H_25x25
750нм25x25 мм²420 нм380 нмH750H_25x25
1000нм0,2x0,2 мм² (9x)110 нм100 нмH1000H_02x02
1010нм15x15 мм²300 нм390 нмH1010H_15x15
1010нм25x25 мм²300 нм490 нмH1010H_25x25
1010нм25x25 мм²350 нм470 нмH1010H_25x25
2000нм0,2x0,2 мм² (9x)110 нм200 нмH2000H_02x02
3000нм20x20 мм²850 нм1500 нмH3000H_20x20
3000нм20x20 мм²1500 нм1200 нмH3000H_20x20
ПериодичностьЭффективная площадьМаксимальная глубина травления (кремний/кварц)Диаметр отверстияМодель
125 нмφ 90 мм150нм/100нм50-70 нмH125S_D90
125 нм20x20 мм²90 нм/-65 нмH125S_20x20
140 нмΦ 80 мм150нм/100нм60~80 нмH140S_D80
150нмφ 90 мм150нм/100нм60-90 нмH150S_D90
150нм5x5 мм²100 нм/-65 нмH150S_5x5
190 нмφ 94 мм180нм/140нм85~115 нмH190S_D100
200нмφ 90 мм200нм/150нм70-120 нмH200S_D90
200нм5x5 мм²110 нм/-70 нмH200S_5x5
235нмφ 94 мм200нм/150нмот 100 до 135 нмH235S_D100
250нм5x5 мм²110 нм/-70 нмH250S_5x5
300 нмφ 90 мм200нм/150нм120-180 нмH300S_D90
350 нмφ 94 мм300нм/150нм240 - 280 нмH350S_D100
350 нм20x20 мм²300 нм/-250 нмH350S_20x20
375 нмφ 94 мм200нм/100нм150 - 250 нмH375S_D100

Особенности и преимущества:

  1. Высокое разрешение: Наши трафареты для наноимпринтов обладают превосходным разрешением, что позволяет получать сложные рисунки в наномасштабе. Такое высокое разрешение делает их идеальными для изучения наноразмерных явлений и изготовления наноустройств.

  2. Высокая точность: В нашем процессе производства трафаретов используется передовая технология нанофабрикации, обеспечивающая высокую степень согласованности и точности. Такая высокая точность гарантирует, что каждый трафарет обеспечивает надежные и повторяющиеся результаты переноса рисунка.

  3. Универсальность: Наш трафарет для наноимпринтинга может использоваться в различных областях. Его можно использовать для изготовления наноэлектронных устройств, таких как нанотранзисторы и нанопроволоки. Его также можно использовать для изготовления оптоэлектронных устройств, таких как наногратты и фотонные кристаллы. Кроме того, он имеет широкий спектр применения в биомедицинской области, например, для изготовления биочипов и наносенсоров.

  4. Эффективность: Наш процесс производства нанотрафаретов эффективен и масштабируем. Он может производиться массово и подходит для крупномасштабного производства. Такая высокая эффективность делает нашу продукцию первым выбором для исследований в промышленности и научных кругах.

  5. Изготовление на заказ: Мы можем предоставить трафареты для нанотиснения на заказ в соответствии с потребностями наших клиентов. Будь то специфический графический дизайн или особые требования к материалу, наша команда сможет подобрать для вас оптимальное решение.

Гексагональные массивы отверстий и прямоугольные массивы отверстий в нанотрафаретах - два распространенных шаблона дырчатых структур, используемых для достижения точного переноса и подготовки наноразмерного рисунка.

Эти два типа шаблонов с массивом отверстий обеспечивают высокую однородность и воспроизводимость подготовки при наноимпринтинге и способны удовлетворить требования к точности подготовки наноструктур. Они обеспечивают важные инструменты и решения для таких областей, как нанофабрикация, исследование наноустройств и биомедицинские приложения.

Найти технические характеристики грохотов

Электронные книги
Каталог Harbor Semiconductor
Не можете найти нужный вам продукт?
Мы предлагаем индивидуальные услуги по обработке в соответствии с вашими потребностями.

Последние новости

История о наших возможностях, наших исследованиях и меняющемся облике нашей компании.
Прокрутка к началу

Отсканируйте код, чтобы добавить службу поддержки корпоративных клиентов WeChat: Tom

Отсканируйте код, чтобы добавить службу поддержки корпоративных клиентов WeChat: Tom